1) the second order simplified analysis
二级简化分析
2) simplified analysis
简化分析
1.
Research on simplified analysis method of tall building structures with frame supported sub-shearwalls;
框支分区剪力墙高层结构整体简化分析方法研究
2.
Introduction of the simplified analysis and design for blast-resistance of glazing curtain wall
玻璃幕墙抗爆简化分析与设计概述
3.
The simplified analysis solution method is given in this paper and the way to.
但是当永久结构和临时结构的规模较大时,会造成计算和分析的诸多困难,如何对临时结构进行准确地简化分析是解决问题的关键。
3) secondary analysis
二级分析
5) streamline RCM
简化RCM分析
补充资料：电子级二氯二氢硅
分子式： SiH2Cl2
CAS号：
性质：在室温和大气压力下是一种高可燃、腐蚀性有毒气体，阈限值-重量加权平均浓度(TLV TWA)未定，可采用氯化氢的TWA值，即5×10-6(ACGIH)。于21.1℃和大气压力下气体相对密度(空气=1)3.48；气体密度4.228kg/m3；液体密度1235kg/m3(21.1℃)，1188kg/m3(40.6℃)。沸点8.2℃。熔点-122℃。在空气中的可燃限4.1％～98.8％(体积)；自燃温度58℃。与水或水气接触迅速水解产生二氧化硅和盐酸。国外多采用三氯氢硅歧化法生产粗二氯二氢硅，精馏法提纯；也有用多晶硅厂尾气中提取二氯二氢硅的技术路线，经精馏、络合、终端吸附可制得高纯二氯二氢硅。二氯二氢硅主要用于多晶硅外延生长以及化学气相淀积二氧化硅和氮化硅。
CAS号：
性质：在室温和大气压力下是一种高可燃、腐蚀性有毒气体，阈限值-重量加权平均浓度(TLV TWA)未定，可采用氯化氢的TWA值，即5×10-6(ACGIH)。于21.1℃和大气压力下气体相对密度(空气=1)3.48；气体密度4.228kg/m3；液体密度1235kg/m3(21.1℃)，1188kg/m3(40.6℃)。沸点8.2℃。熔点-122℃。在空气中的可燃限4.1％～98.8％(体积)；自燃温度58℃。与水或水气接触迅速水解产生二氧化硅和盐酸。国外多采用三氯氢硅歧化法生产粗二氯二氢硅，精馏法提纯；也有用多晶硅厂尾气中提取二氯二氢硅的技术路线，经精馏、络合、终端吸附可制得高纯二氯二氢硅。二氯二氢硅主要用于多晶硅外延生长以及化学气相淀积二氧化硅和氮化硅。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条