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1)  Stain mechanism
沾污性机理
2)  organic contaminations
有机沾污
1.
This electrochemical reaction was applied during the oxidation,decomposition,and removal of organic contaminations on a silicon wafer surface,and it was used as the first step in the diamond electrochemical cleaning technique(DECT).
采用金刚石膜电极的电化学方式在专用水基清洗剂中不断产生强氧化剂过氧焦磷酸根离子(P2O84-),并将此方式作为金刚石膜电化学清洗工艺步骤的第一步,用于氧化去除硅片表面的有机沾污。
3)  stain resistance
耐沾污性
1.
Investigation on copolymerization of core-shell acrylate emulsion and stain resistance of latex coating;
核壳丙烯酸酯乳液的合成及其涂料耐沾污性研究
2.
Study of Stain resistance for Exterior Wall Latex Coatings;
建筑外墙乳胶涂料的耐沾污性研究
3.
The key factors affecting stain resistance of emulsion paint are analyzed.
对影响乳胶漆耐沾污性的几个因素进行了分析讨论,并进行了试验验证,最后提出了改善乳胶漆耐沾污性的建议。
4)  dirt pick-up
沾污性
5)  stain resistance
防沾污性
6)  soiling behavior;soilability
易沾污性
补充资料:地面沾污
分子式:
CAS号:

性质:在核工业的生产、实验、同位素应用以及核爆炸过程中,由于操作的疏忽以及与放射性物质直接接触等原因,造成工作场所地面或周围环境地面被放射性物质沾污的现象。地面沾污的程度取决于地面材料的性质和沾污情况。

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