1) template
模版法
2) symbol unit model method
符号图元模版法
3) fabrication
相位掩模版法
1.
In the paper,the Phase Mask method for the fabrication of fiber gratings has been ananlyzed and some experimental results are also reported.
对刻制光纤光栅的相位掩模版法进行了分析 ,并做了实验研究 。
4) wax moulding process
电铸蜡模版法
5) lead moulding process
电铸铅模版法
6) stencil
模版
1.
The correct exposure is a key to high qualitystencil processing.
正确曝光是制作高质量丝网模版的关键,从影响晒版曝光的工艺因素:感光乳剂、丝网、光源、曝光管理等方面进行了探讨,并指出了操作中应注意的一些事项。
2.
Mode of thinking of C++ Object-Oriented Programming; Design of class; Use of stencil; Use of library; robustness of design of the program are expounded the how to program Object-Oriented procedure of high quality with C++.
分析了利用C++开发面向对象程序时容易出现的若干问题,并从向面向对象的程序设计思维方式;类的设计;模版的使用;库的利用;程序的健壮性的设计五个方面论述了C++如何进行高质量的面向对象程序设计。
3.
The solder paste stencil printing process is the first and the significant assembly process procedure in SMT process.
SMT制程中,焊膏模版印刷(Stencil Printing)是首要的、关键的制程步骤。
参考词条
补充资料：光学掩模版
分子式：
CAS号：
性质： 在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。
CAS号：
性质： 在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。