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1)  thin defects of oxidation slag inclusion
氧化膜类缺陷
2)  oxide film defect
氧化膜缺陷
1.
The fracture of the clamp splice was mainly caused by the oxide film defect located at stress concentration zone.
结果表明:分布在应力集中区的氧化膜缺陷是导致夹块断裂的主要原因;"U"型槽斜面与槽底无明显的圆角过渡,也是导致夹块断裂的一个因素。
3)  Oxidation defect
氧化缺陷
4)  defect of passivation
氧化层缺陷
5)  defects in oxide
氧化物缺陷
6)  Oxygen-deficient defects
缺氧缺陷
补充资料:硒氧化物类高分子氧化剂
分子式:
CAS号:

性质:指含有硒氧化物(—SeO—)的高分子氧化剂。硒氧化物试剂是一种能够将烯烃氧化成邻二羟基化合物,将芳香环外甲基氧化成醛的选择性氧化剂。虽然有机硒化合物是常用的氧化试剂,但是小分子有机硒有毒,并具有恶臭,对工业化使用不利。高分子化的硒试剂可以消除上述缺点。高分子硒试剂的制备通常以聚对氯苯乙烯为原料,与硒酚钠反应生成二苯硒醚型高分子硒试剂。

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