1) transformation
形转
2) rotor
笼形转子
3) S shape rotor
S形转子
4) pattern transfer
图形转移
1.
The fidelity pattern transfer of mask and substrate were analyzed with the etching depth.
给出了离子能量、离子束流密度和离子束入射角等因素与刻蚀速率的关系曲线,用最小二乘法拟合了上述因素与刻蚀斜率的函数关系方程;分析了光刻胶和基片在刻蚀过程中随刻蚀深度的变化对图形转移精度的影响,用AFM的Tapping模式测量了刻蚀前后HfO2薄膜表面质量的变化。
2.
In the thesis, the method and principle of getting electro deposition (ED) photoresist has been introduced, together with the technology of pattern transfer.
随着高密度互连(HDI)技术的发展,IC封装密度的提高,高解析度(分辨率)、均一性良好的超薄感光抗蚀膜成为必然需求,文中介绍了电沉积技术(ED)成膜的方法、原理以及相应的图形转移技术,并与传统干膜、旋涂成膜工艺进行对比,结果表明ED膜具有良好的粘附力、很高解析度以及精确的图形精度。
3.
Correction of pattern transfer errors for SU-8 UV deep lithography;
本文深入研究了影响紫外深度光刻图形转移精度的如下因素:衍射效应、曝光剂量、紫外光波长和蝇眼透镜的分布等等。
5) columned drum
柱形转鼓
6) Rotary star structure
星形转架
参考词条
补充资料：晶态-无定形态转变
分子式：
CAS号：
性质：无定形态主要指结构上不含长程三维周期性，不能给出明锐衍射峰，能量上处于介稳状态的物相，具置换式统计原子的骤冷合金无序相等亦可归入广义的无定形态。基于无定形态是一类结构无序度高的能量介稳态，这决定了无定形态转化为晶态时结构将有序化并释出晶化热，在相变过程中，电阻、比热容等其他物理或化学性质亦将呈现变异，如炭黑微晶与石墨晶体之间以及转化临界温度为395℃的AuCu合金体系的有序相与无序相之间均有晶态—无定形态转变问题。
CAS号：
性质：无定形态主要指结构上不含长程三维周期性，不能给出明锐衍射峰，能量上处于介稳状态的物相，具置换式统计原子的骤冷合金无序相等亦可归入广义的无定形态。基于无定形态是一类结构无序度高的能量介稳态，这决定了无定形态转化为晶态时结构将有序化并释出晶化热，在相变过程中，电阻、比热容等其他物理或化学性质亦将呈现变异，如炭黑微晶与石墨晶体之间以及转化临界温度为395℃的AuCu合金体系的有序相与无序相之间均有晶态—无定形态转变问题。
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