1) N+ ion implantation
氨离子注入
2) ammonium ion
氨离子
3) N+ ion beam
氨离子束
4) Ammonium Concentration
氨离子浓度
5) Sensibilized NH_3 selective electrode
敏化氨离子选择气敏电极（NH3-ISE）
补充资料：离子注入（ionimplantation）
离子注入（ionimplantation）
用离子加速器将各种离子注入半导体材料，从而改变半导体材料的电学、光学或其他物理性质的半导体工艺技术，称为离子注入技术。自从20世纪70年代以来离子注入技术在半导体器件制备工艺中获得了广泛应用，是半导体器件工艺的最主要技术之一。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。