1) Sedimentaion physical
沉积物理
2) Annually laminated sediments
纹理沉积物
3) physical vapor deposition
物理气相沉积法
1.
Employing the physical vapor deposition method,Bi2O3 powder was heated to 1050 ℃ at normal pressure in a horizontal tube furnace with the protection of argon gas and oxygen,and then cooled and deposited naturally.
利用物理气相沉积法,在氩气和氧气保护下将氧化铋粉末在水平管式炉中常压加热至1050℃,然后降温沉积,在硅衬底上得到了大量具有规则矩形外形的二维纳米结构——片状氧化铋。
4) PVD
物理气相沉积
1.
PVD (Ti,Al) N Coating and Its Tooling Quality;
物理气相沉积(Ti,Al)N涂层刀具的切削性能
2.
Progress in Research on Corrosion Resistance of PVD Hard Coating;
物理气相沉积技术制备的硬质涂层耐腐蚀的研究进展
3.
NEW PVD COATING & DIFFUSING TECHNIQUE;
物理气相沉积镀渗新工艺
5) physical vapor deposition
物理气相沉积
1.
The physical vapor deposition always plays an important role in the surface treatment technology.
物理气相沉积(PVD)在表面处理技术中占有举足轻重的地位。
2.
Being seldom used in preparing the silicon coating,the technology of electronic beam physical vapor deposition(EB-PVD)is introduced as a emphases,and the principium and influential factors to per- formances of silicon coating are the main part of the paper.
介绍了两大类硅膜的制备方法:物理方法与化学方法,其中包括物理方法中的电子束物理气相沉积技术(EB-PVD),目前该技术在国内应用比较少,所以对其工作原理、薄膜质量的影响因素等作了重点介绍。
3.
The new research progress for physical vapor deposition in positive film material in recent years is summarized.
综述了近年来国内外物理气相沉积在薄膜锂离子电池正极薄膜方面的研究新进展,着重介绍了射频磁控溅射、脉冲激光沉积、电子束沉积等制备技术的工作原理、特点及发展,并对这些制备技术在锂离子电池正极薄膜制备中的应用进行了分析、比较和评价。
6) physical vapour deposition(PVD)
物理气相沉积(PVD)
补充资料：物理学危机(见物理学革命)
物理学危机(见物理学革命)
crisis in physics
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说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条