1) CVD
化学汽相沉积法
1.
The optimization for fabricating large cross section Si/GeSi/Si single mode rib waveguides with RF heated CVD method is discussed.
报道用射频加热化学汽相沉积法制备Ｓｉ／ＧｅＳｉ／Ｓｉ大断面单模脊形光波导中设计和工艺的进一步完善。
2) chemical vapor deposition (CVD)
化学汽相沉积法（CVD）
3) chemical vapor deposition process
化学汽相沉积法<光>
4) activated chemical vapor deposition process
激活化学汽相沉积法<光>
5) plasma enhanced chemical vapor depositon (PECVD)
等离子体化学汽相沉积法（PECVD）
6) plasma-activated chemical vapor deposition process
等离子激活化学汽相沉积法<光>
参考词条
补充资料：等离子化学气相沉积
分子式：
CAS号：
性质：PCVD 化学气相沉积(CVD)法是制备无机材料，尤其是无机薄膜和涂层的一种重要手段。用等离子辅助CVD，可在较低的温度下沉积，涂层均匀不剥落。
CAS号：
性质：PCVD 化学气相沉积(CVD)法是制备无机材料，尤其是无机薄膜和涂层的一种重要手段。用等离子辅助CVD，可在较低的温度下沉积，涂层均匀不剥落。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。