1) laser direct lithography
激光直接光刻
1.
In the paper, the method for fabrication of diffractive microlens array using laser direct lithography system and reactive etching machine is described.
介绍了利用激光直接光刻技术制作８相位台阶菲涅尔衍射微透镜列阵的工艺方法，并对元件的衍射效率及光刻过程中的制作误差进行了分析，透镜列阵在小形Ｓｈａｃｋ－Ｈａｒｔｍａｎｎ波前传感器中得到了应用。
2) direct laser marking
直接激光标刻
1.
This paper first introduced a new method of direct tool marking (take advantages of direct laser marking and 2D barcode identification technology) to overcome the difficulties in the field of tool marking and information tracking.
针对目前刀具标识与信息追踪方面存在的不足,采用直接激光标刻和二维条码技术实现了刀具的直接标识。
3) laser direct writing photolithography
激光直写光刻
1.
The effect that the intensity of the writing spot relating to the amounts of defocus in the laser direct writing photolithography is analyzed based on the diffractive theory and the ray-tracing method, respectively.
采用理论计算和光线追迹分析了激光直写光刻中离焦对写入焦斑光场分布的影响;使用四轴激光直写设备开展了离焦激光直写光刻工艺实验,实验和理论计算及光线追迹的结果吻合得很好。
4) laser direct writing(LDW)
激光直写光刻(LDW)
5) laser photolithography
激光光刻
1.
Review of excimer laser photolithography technique and its progress;
准分子激光光刻技术及进展综述
6) Laser parallel direct writing
激光并行直写光刻
补充资料：激光扫描直接制版型照排系统
20世纪70年代末期发展起来的新型排版系统。它是根据字符经过电子计算机信息处理，在激光扫描成像工作原理的基础上产生的。由于激光光束的直线性好、能量强、解像力高、可以整版扫描等，直接照摄在涂有与激光波长相对应的制版感光材料上，经过处理 (不必经由感光材料将字符转移),就能直接制成印版。这一系统首先由英国连诺公司在1979年推出。80年代初又有用发光二极管(LED)代替激光的机型。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条