1) X ray exposure
X射线曝光量
2) double X-ray exposures
二次X射线曝光
1.
The technique of fabricating concave gratings in PMMA by double X-ray exposures is described.
介绍了一种通过微细加工技术即二次X射线曝光制作凹面光栅的方法。
3) intensitometer
X射线曝光计
4) intensitometer
X-射线曝光计
6) polisography
[,pɔli'sɔɡrəfi]
多次曝光X射线照像术
补充资料：曝光量
分子式：
CAS号：
性质：感光材料的感光面上所接受的照度的时间积分值，单位为勒克斯·秒(Lx·s)，物理量符号为H，经常用对数单位lgH来表示。由于存在互易律失效，曝光量相同时的照相效果并不一定相同，因此需标明曝光时间或照度。
CAS号：
性质：感光材料的感光面上所接受的照度的时间积分值，单位为勒克斯·秒(Lx·s)，物理量符号为H，经常用对数单位lgH来表示。由于存在互易律失效，曝光量相同时的照相效果并不一定相同，因此需标明曝光时间或照度。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条