1) Arc plasma rotated by magnetic field
磁旋转弧等离子体
2) plasma arc controlled by magnetic field
磁控等离子体弧
1.
Flexible forming using plasma arc controlled by magnetic field is a new no mould processing technique which has very wide application prospect on large plates in multiple varieties and low batch production.
磁控等离子体弧柔性成形作为一种新的无模加工方法,在多品种、小批量大型板件成形生产中具有广阔的应用前景,弧柱品质对磁控等离子体弧柔性成形的质量和效率起着重要作用。
3) Plasma rotation
等离子体旋转
4) rotating plasma
旋转等离子体
5) filtered cathodic arc plasma
磁过滤阴极弧等离子体
1.
Titanium nitride coatings were deposited on unheated stainless steel substrate and stainless steel substrate heated to 400 ℃ by filtered cathodic arc plasma deposition (FCAP) and direct current magnetron sputtering deposition (DCSP), respectively.
分别利用磁过滤阴极弧等离子体沉积装置和直流磁控溅射装置在不锈钢基底上制备了 Ti N涂层 ,采用 X射线光电子能谱仪、X射线衍射仪和扫描电子显微镜对涂层的结构及形貌进行了表征 ;利用纳米压痕仪测定了涂层的硬度 ;在 DF- PM型动摩擦系数精密测定仪上考察了涂层的摩擦学性能 。
2.
This thesis focused on the preparation of amorphous carbon nanotip arrays for excellent field emission cathode material by a unique combination of the anodic aluminum oxide (AAO) template and filtered cathodic arc plasma (FCAP) technology.
本论文以磁过滤阴极弧等离子体技术结合阳极氧化铝模板制备冷阴极场发射材料非晶碳纳米尖点阵列膜为重点,分别对阳极氧化铝模板的制备工艺、模板孔径大小和孔道开口形状的准确控制及其性能进行了研究探讨,对非晶碳纳米尖点阵列的制备技术、性能进行了较为深入详细的分析探讨。
6) magnetic-controlled arc discharge plasma
磁控弧光放电等离子体
补充资料：等离子体压强和磁压强
在流体近似下，可以把等离子体看成是彼此相互作用的电子和离子两种气体的混合物。它们各具有动力压强,上述两种气体成分的分压强之和P=k(niTi+neTe)称为等离子体压强，k是玻耳兹曼常数,角标i、e分别表示离子和电子。
经常遇到的处在静磁场 B中的等离子体，除了等离子体压强外，它还受到磁力 作用，j是电流密度。当磁力线是直的并互相平行时，(B·墷)B项等于零，相当于压强，称为等离子体磁压强。
在等离子体压强和磁压强并存之时，常用参数表示磁压强的相对重要性。这个参数称为比压。
经常遇到的处在静磁场 B中的等离子体，除了等离子体压强外，它还受到磁力 作用，j是电流密度。当磁力线是直的并互相平行时，(B·墷)B项等于零，相当于压强，称为等离子体磁压强。
在等离子体压强和磁压强并存之时，常用参数表示磁压强的相对重要性。这个参数称为比压。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条