1) Alq3
8-羟基喹啉铝
1.
The electronic structure and characteristics of annealing and oxidation of 8-tris-hydroxyquinoline aluminum(Alq3) doped with rubidium were investigated by synchrotron radiation photoemission.
利用同步辐射光电子能谱实验技术研究了活泼金属铷原子掺杂8-羟基喹啉铝(Rb-Alq3)薄膜的电子结构以及低温退火与氧化行为,结果表明铷和Alq3分子发生显著反应,电子从金属原子转移到Alq3的LUMO轨道,形成活泼金属/有机接触中典型的带隙态,结合能位于1。
2.
Alq3 is the key electroluminescent material currently used in organic light-emitting devices (OLEDs) based on "small molecules".
利用多孔铝非常高的孔隙率,将8-羟基喹啉铝(Alq3)镶嵌到多孔铝中,得到Alq3/多孔铝镶嵌膜,研究了不同条件下制备的多孔铝镶嵌膜的荧光光谱。
2) tris-8-hydroxyquinolate-aluminum
三-(8-羟基喹啉)铝
4) tris(8-hydroxyquinoline)) aluminum complex
8-羟基喹啉铝配合物
5) furfural/oxine-aluminum
糠醛/8-羟基喹啉铝
6) 8-hydroxylquinoline aluminum derivatives
8-羟基喹啉合铝衍生物
补充资料：8-羟基喹啉铝
分子式：C27H18AlN3O3
分子量：459.43
CAS号：2085-33-8
性质：熔点413-415°C。
分子量：459.43
CAS号：2085-33-8
性质：熔点413-415°C。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条