1) hadron production cross section
强子产生总截面
2) cross section
产生截面
1.
In the context of SU(3)c(?)SU(3)L(?)U(1)x(331) model with right-handed (RH) neutrinos, we study the Higgsstrahlung process e+e-→ZH and calculate the cross section of this process at leading order.
在该模型合理的参数空间内,过程e+e-→ZH的总产生截面σ与标准模型(SM)相应值的偏差大于5%,应该能在未来的高能直线对撞机实验中观测到。
2.
In the framework of the littlest Higgs(LH) model and the littlest Higgs model with T-parity(LHT), we investigate the single top production process e~-γ→v_eb(?),and calculate the corrections of these two models to the cross section of this process.
在最小Higgs模型和T宇称下的最小Higgs模型中,计算了单个顶夸克的产生过程e~-γ→v_eb(?)的产生截面,并讨论了这两种模型对该过程产生截面的贡献。
3.
We find that the cross section of pp→b→W±π is roughly corresponding to the result of the process pp→b→W±H in the minimal supersymmetric standard model,and for reasonable ranges of the parameters,the cross section can reach some dozens or even more than one hundred fb.
在顶色辅助多标度人工色 (TOPCMTC)模型下计算了大动量强子对撞机 (LHC)上π 介子与W± 规范玻色子辅助产生过程pp→b b→W±π 的产生截面 。
3) production cross section
产生截面
1.
Study of the L-subshell X-ray production cross sections of Au by 20—50 MeV O~(5+) bombardments
20—50 MeV O~(5+)离子引起Au的L壳层X射线产生截面研究
2.
The result is that the PG boson P 0 a can significantly enhance the top quark production cross section.
在Ｔｏｐｃｏｌｏｒ－ＡｓｓｉｓｔｅｄＴｅｃｈｎｉｃｏｌｏｒ框架下，计算了多标度ＷＴＣ模型的中性色八重态ＰＧ玻色子Ｐ０ａ对ｔｏｐ夸克产生截面的修正，结果表明Ｐ０ａ可以增大Ｔｅｖａｔｒｏｎ上ｔｏｐ夸克的产生截
3.
Within the Boltzmann-Langevin equation,the isospin effects on the production cross sections of light charged particles(LCP) in the reaction of proton rich nuclei were studied.
12—15N与28Si靶的反应结果显示轻带电粒子的产生截面有明显的同位旋效应,12N的轻带电粒子产生截面突然增大,与实验得出的结论相同,由此检验了所采用的计算方法的可行性。
4) total neutron cross section
中子总截面
5) cross-section of single W boson production
单W粒子产生截面
6) production cross section σ t t
产生截面σtt
补充资料：总截面
分子式：
CAS号：
性质：指入射粒子与靶核的所有作用方式的概率之和，符号为 。 总离子强度调节缓冲剂 total ionic strength adjustment-buffer；TISAB 在直接电位分析法中将所加入的适合控制pH范围的缓冲剂、消除干扰的掩蔽剂和维持恒定的离子强度的调节剂，统称为总离子强度调节缓冲剂。
CAS号：
性质：指入射粒子与靶核的所有作用方式的概率之和，符号为 。 总离子强度调节缓冲剂 total ionic strength adjustment-buffer；TISAB 在直接电位分析法中将所加入的适合控制pH范围的缓冲剂、消除干扰的掩蔽剂和维持恒定的离子强度的调节剂，统称为总离子强度调节缓冲剂。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条