1) interference enhancement
干涉增强
1.
In the sodium dimer rhomb type four level system with a pair of coherent superposition levels, the interference enhancement of two photon absorption caused by coherent superposition of the coupling levels is experimentally observed.
在中间共振增强能级是一对波函数叠加的耦合能级的钠分子菱形四能级系统中 ,实验观察了由该两耦合能级的相干叠加作用所导致的不等频双光子吸收的干涉增强效应 ,并运用密度矩阵方程对这一实验现象进行了计算 ,其结果与实验符合得很好 。
2.
The co-area existing in decoration-state is first presented and quantum interference enhancement in the area of atom spectrum is interpreted according to the computational result.
研究了原子与分子混合共振相互作用过程中准∧型四能级系统的量子干涉效应 ,特别对在驱动激光场作用下钠原子、钠分子和氩气组成的混合系统中出现量子干涉现象的机理作了分析 ,提出缀饰态能级有交叠区 ,并依据相应的理论计算 ,解释了原子光谱中的量子干涉增强效应。
2) interference enhance layer
干涉增强层
1.
The base line signal based on the TiO2 interference enhance layer is low.
结果表明:应用甩膜法构建的传感单元具有较平整的表面,以二氧化钛为干涉增强层的传感单元具有低背景信号,检测光学厚度信号与检测浓度之间具有很好的线性相关性。
3) enhanced interferogram
增强干涉图
4) quantum interference strengthening effect
量子干涉增强
5) interference light intensity
干涉光强
1.
In this paper, the relation expression between pressure and interference light intensity is illustrated in MEMS pressure sensor, with MEMS pressure sensor explained by adopting Fabry-Perot cavity theory model.
推导出光纤MEMS压力传感器中硅横膈膜受到的压力与干涉光强的关系表达式 。
6) interference intensity
干涉强度
补充资料：X射线干涉术
利用 X射线相继通过多块布喇格衍射晶体后产生的干涉现象来研究晶体缺陷和测定晶体基本参量的一种高精度技术。1965年第一台X射线干涉仪的出现，开辟了X 射线光学的新领域。
常用的X射线干涉仪可分为两类。
三晶干涉仪 1965年U.邦泽和M.哈特研制成功透射型X射线干涉仪。随后，X射线干涉技术和理论得到迅速发展，先后出现了反射型(1966)和混合型(1968)等多种类型的干涉仪,其光学原理及衍射束强度分布均由X射线衍射动力学平面波理论及球面波理论得到解释。图1是最常用的LLL型干涉仪示意图。分束器S、镜面 M和分析器A三者同在一块完整晶体上加工而成。当X射线入射到S，从衍射动力学理论可知，对于"厚"晶体，μt＞10,μ和t分别为晶体的吸收系数和厚度，只有布洛赫波的波节与散射原子平面重合的一支偏振波能通过晶体,其透射波离开S时分成相干的直射束和衍射束。镜面 M的作用是使两束分离的相干X射线重合，在分析器A前面产生驻波干涉条纹。分析器 A的作用是把原子尺度的驻波干涉条纹放大为宏观尺度的X射线叠栅条纹。如果S、M、A晶片严格相同并严格对准，那么在垂直于直射束或衍射束的观察面上只看到均匀的X射线强度分布,但若干涉仪内某一组元点阵参量或取向发生微小变化，都会使叠栅条纹产生相应的变化。叠栅条纹垂直于两倒易矢量之差，其间距与两倒易矢量之差的绝对值成正比。
二晶干涉仪 如果干涉仪的两块晶片由同一块晶体加工而成，当两组元同时满足布喇格定律，并且，它们之间存在点阵参量或取向的微小差别，即会产生叠栅条纹。1951年，有人首先在电子显微镜上观察到此现象。1965年日本的千川纯一观察到X射线的这种现象。图2是二晶干涉仪的几何示意图。X射线通过分束器S,相干的直射束和衍射束在出射面附近部分重叠，产生驻波干涉。通过分析器A观察到放大的X射线叠栅条纹。
应用 X射线干涉术是一种高精度的检测技术,在晶体缺陷研究方面，可用来观察缺陷所引起的微小点阵参量失配(精确度达Δd/d＝10-8)，晶体点阵中的微小角偏转（精度达10-8弧度）,精确测定位错的伯格斯失量以及用作X射线相差显微镜；在晶体学基本参量测量方面,用来精确测定 X射线折射率、晶胞参量以及晶体结构因子等基本参量；在计量学方面,可与光学干涉仪配合用作X射线波长的精确测定以及测定晶体材料的阿伏伽德罗常数，这是探索建立质量自然基准中很有希望的一种方案。
参考书目
L.V.Azaroff,et al.,X-Ray DiffRaction,McGraw-Hill,Inc., New York, 1974.
Z.G.Pinsker,Dynamical Scattering of X-Rays in Crystals, Springer-Verlag, Berlin,Heidelberg,1978.
常用的X射线干涉仪可分为两类。
三晶干涉仪 1965年U.邦泽和M.哈特研制成功透射型X射线干涉仪。随后，X射线干涉技术和理论得到迅速发展，先后出现了反射型(1966)和混合型(1968)等多种类型的干涉仪,其光学原理及衍射束强度分布均由X射线衍射动力学平面波理论及球面波理论得到解释。图1是最常用的LLL型干涉仪示意图。分束器S、镜面 M和分析器A三者同在一块完整晶体上加工而成。当X射线入射到S，从衍射动力学理论可知，对于"厚"晶体，μt＞10,μ和t分别为晶体的吸收系数和厚度，只有布洛赫波的波节与散射原子平面重合的一支偏振波能通过晶体,其透射波离开S时分成相干的直射束和衍射束。镜面 M的作用是使两束分离的相干X射线重合，在分析器A前面产生驻波干涉条纹。分析器 A的作用是把原子尺度的驻波干涉条纹放大为宏观尺度的X射线叠栅条纹。如果S、M、A晶片严格相同并严格对准，那么在垂直于直射束或衍射束的观察面上只看到均匀的X射线强度分布,但若干涉仪内某一组元点阵参量或取向发生微小变化，都会使叠栅条纹产生相应的变化。叠栅条纹垂直于两倒易矢量之差，其间距与两倒易矢量之差的绝对值成正比。
二晶干涉仪 如果干涉仪的两块晶片由同一块晶体加工而成，当两组元同时满足布喇格定律，并且，它们之间存在点阵参量或取向的微小差别，即会产生叠栅条纹。1951年，有人首先在电子显微镜上观察到此现象。1965年日本的千川纯一观察到X射线的这种现象。图2是二晶干涉仪的几何示意图。X射线通过分束器S,相干的直射束和衍射束在出射面附近部分重叠，产生驻波干涉。通过分析器A观察到放大的X射线叠栅条纹。
应用 X射线干涉术是一种高精度的检测技术,在晶体缺陷研究方面，可用来观察缺陷所引起的微小点阵参量失配(精确度达Δd/d＝10-8)，晶体点阵中的微小角偏转（精度达10-8弧度）,精确测定位错的伯格斯失量以及用作X射线相差显微镜；在晶体学基本参量测量方面,用来精确测定 X射线折射率、晶胞参量以及晶体结构因子等基本参量；在计量学方面,可与光学干涉仪配合用作X射线波长的精确测定以及测定晶体材料的阿伏伽德罗常数，这是探索建立质量自然基准中很有希望的一种方案。
参考书目
L.V.Azaroff,et al.,X-Ray DiffRaction,McGraw-Hill,Inc., New York, 1974.
Z.G.Pinsker,Dynamical Scattering of X-Rays in Crystals, Springer-Verlag, Berlin,Heidelberg,1978.
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
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