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1)  V and N co-doped TiO2
N、V共掺杂TiO2
2)  N-doped TiO2
N掺杂TiO2
1.
N-doped TiO2 films were deposited by arc ion plating method with different pulsed bias and then were annealed at 400 ℃ for 4 h in air.
本文利用电弧离子镀技术,施加不同脉冲偏压,在玻璃基体上沉积了N掺杂TiO2薄膜。
3)  V and N co-doped TiO_2
N、V共掺杂TiO_2
4)  N-In codoped
N-In共掺杂
1.
N-In codoped ZnO thin films on quartz glass substrates can be fabricated by using radio frequency magnetron sputtering technique together with the direct implantation of acceptor dopants(nitrogen).
利用射频磁控溅射结合离子注入的方法在石英玻璃衬底上成功地实现了ZnO薄膜的N-In共掺杂,借助于XRD、霍耳测试、透射谱测试等手段分析了不同退火条件下对ZnO薄膜的结构及光电性质的影响。
5)  N-codoped
N-共掺杂
1.
Cr,N-codoped tiatanate nanotubes with visible-light response were synthesized by hydrothermal process by using Cr,N-codoped TiO_2 as precursor.
以低温溶剂热法合成的 Cr,N-共掺杂的 TiO_2为前驱体,采用水热法合成了可见光响应 Cr。
6)  Gd/N-codoped nano-titania
Gd/N共掺纳米TiO2
补充资料:不共中不共变
【不共中不共变】
  谓如眼等五根,唯自己第八识中最初一念,托父母遗体时变现,名不共;出胎之后,唯自己受用,复名不共。如眼识,惟依眼根而发;乃至身识,唯依身根而发,不相混杂,是为不共中不共变。
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