说明:双击或选中下面任意单词,将显示该词的音标、读音、翻译等;选中中文或多个词,将显示翻译。
您的位置:首页 -> 词典 -> 等效偏移距
1)  Equivalent offset
等效偏移距
1.
Scattering imaging is based on the wavefield characterisitics and scattering theory,utilizes the equivalent offset of common scattering point gathers to image the subsurface geolog- ic bodies.
散射成像方法主要是根据散射波的波场特征及散射理论,利用共散射点的等效偏移距道集对地下地质体进行偏移成像。
2)  equivalent offset migration(EOM)
等效偏移距偏移(EOM)
3)  common offset
等偏移距
1.
Automatic refraction static correction in common offset domain.;
等偏移距自动初至静校正
4)  isometry excursion
等距偏移
1.
This algorithm adopted the interference symbol to create respectively the shaped cavity contours and isometry excursion contours of each island.
该算法采用干涉标志分别生成型腔轮廓和各个岛的等距偏移轮廓,然后通过二维布尔运算进行偏移轮廓的合并,再进行轮廓生成树的深度优先遍历,可以得到最终的环切加工轨迹。
5)  Equivalent prestack migration
等效叠前偏移
6)  Equivalent migration velocity
等效偏移速度
补充资料:创建偏移剖面

要创建偏移剖面,必须通过在“草绘器”中进行草绘以定义切口轮廓。然后,垂直于草绘平面投影此轮廓。单击 “视图”(View)>“视图管理器”(View Manager)。“视图管理器”(View Manager) 对话框打开。单击“剖截面”(Xsec)。单击“新建”(New)。出现一个缺省的剖面名称。按 ENTER 键。“剖截面创建”(XSEC CREATE) 菜单打开。单击“偏移”(Offset)>“一侧”(One Side)“双侧”(Both Sides)>“完成”(Done)“选取”(SELECT) 对话框打开。选取草绘平面,并定义查看方向和草绘方向。进入“草绘器”。选取用于尺寸标注的参照图元。草绘剖面轮廓并单击 退出“草绘器”。 在“视图管理器”(View Manager) 中,单击“显示”(Display)>“设置可见性”(Set Visible)“可见性”(Visibility) 对话框打开。单击“显示剖面线”(Show X-Hatching) 查看剖面。单击 预览或单击 接受选取的选项。

说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。
参考词条