1) electron reflection
电子反射
1.
It; was believed that the strong photocurrent peak is relevant to electron reflection at interface in superlattice.
理论分析认为，该电流峰与超晶格界面的电子反射有关。
2) backscattered electron
反射电子
1.
The backscattered electrons control technology and the new type electron beam source BS-60050EBS;
反射电子抑制技术和新型电子枪(BS-60050EBS)
3) coaxial backscattered electron
背反射电子
5) backscattered electrons
反散射电子
6) ectron repeller
电子反射极
补充资料：反射高能电子衍射
反射高能电子衍射是高能电子衍射的一种工作模式。它将能量为10～50keV的单能电子掠射 (1°～3°)到晶体表面，在向前散射方向收集电子束，或将衍射束显示于荧光屏（见图）。
一幅反射高能衍射图只能给出倒易空间（见倒易点阵）某个二维截面，从衍射点之间的距离可确定相应的晶面间距。旋转样品，可以在荧光屏上得到不同方位角的二维倒易截面，从而仍可获得表面结构的全部对称信息。
由于在晶体中电子散射截面远大于X 射线的散射截面，加之掠射角小，从而使反射高能衍射与低能电子衍射一样具有表面灵敏度（约10～40┱）,但它不仅限于作单晶表面结构分析，也可用于多晶、孪晶、无定形表面及微粒样品的表面结构分析。
反射高能电子衍射得到广泛运用是与分子束外延技术发展有关。它可用于原位观察外延膜生长情况，为改进生长条件提供依据。与低能电子的情况有所不同，高能电子束与晶体相互作用中非弹性散射较弱，其强度分析的理论还处于探索之中。
参考书目
Shozo Ino,Jαpanese Journal of Applied Physics,Vol.16,No.6,pp.891～908,1977.
一幅反射高能衍射图只能给出倒易空间（见倒易点阵）某个二维截面，从衍射点之间的距离可确定相应的晶面间距。旋转样品，可以在荧光屏上得到不同方位角的二维倒易截面，从而仍可获得表面结构的全部对称信息。
由于在晶体中电子散射截面远大于X 射线的散射截面，加之掠射角小，从而使反射高能衍射与低能电子衍射一样具有表面灵敏度（约10～40┱）,但它不仅限于作单晶表面结构分析，也可用于多晶、孪晶、无定形表面及微粒样品的表面结构分析。
反射高能电子衍射得到广泛运用是与分子束外延技术发展有关。它可用于原位观察外延膜生长情况，为改进生长条件提供依据。与低能电子的情况有所不同，高能电子束与晶体相互作用中非弹性散射较弱，其强度分析的理论还处于探索之中。
参考书目
Shozo Ino,Jαpanese Journal of Applied Physics,Vol.16,No.6,pp.891～908,1977.
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
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