1) mixed lithography
混合曝光
1.
PHEMT devices with T-shaped gate have been developed by using the mixed lithography—a new method combining the Electron Beam Lithography(EBL) with the normal contact lithography.
通过电子束和接触式曝光相结合的混合曝光方法 ,并利用复合胶结构 ,一次电子束曝光制作出具有 T型栅的 PHEMT器件 ,并对 0 。
3) coupled exposure meter
耦合曝光表
4) completely mixed aeration basin
完全混合曝气池
5) completely mixed aerated lagoon
完全混合曝气塘
6) exposure
[英][ɪk'spəʊʒə(r)] [美][ɪk'spoʒɚ]
曝露曝光
补充资料：包围式曝光
包围式曝光（bracketing）是相机的一种高级功能。包围式曝光就是当你按下快门时，相机不是拍摄一张，而是以不同的曝光组合连续拍摄多张，从而保证总能有一张符合摄影者的曝光意图。使用包围式曝光需要先设定为包围曝光模式，拍摄时象平常一样拍摄就行了。包围式曝光一般使用于静止或慢速移动的拍摄对象，因为要连续拍摄多张，很难捕捉动体的最佳拍摄时机。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条