1) reticle-wafer
掩模硅片
1.
To improve the alignment accuracy,an automatic alignment algorithm for 100 nm CD reticle-wafer was constructed.
为了改善对准精度,对100nm级线宽尺寸建立了掩模硅片自动对准数学模型,应用于同轴离轴混合对准系统的硅片模型、掩模模型以及工件台模型中。
2) mask and wafer
掩模与硅片
3) mask picture
掩模图片
4) full wafer mask
整片掩模
5) Stencil silicon mask
镂空硅掩模
6) frequency-plane mask
频面掩模片
补充资料：光学掩模版
分子式：
CAS号：
性质： 在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。
CAS号：
性质： 在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条