1) nm node
65nm节点
2) 90～65 nm node technology
90～65nm节点技术
3) sub-65 nm
亚65nm
4) 65 nm chip
65nm芯片
1.
In 65 nm chip design,the design for manufacturing(DFM),analysis methods and making concerted effort should be regaraed.
65nm芯片的设计需要采用可制造性设计(DFM)、多种分析方法和团队通力合作的精神;65nm芯片制造工艺需采用193nm浸入式光刻技术、等效离子掺杂技术、原子层沉积技术、低应力CMP工艺及无损伤清洗技术;65nm芯片制造设备需要全自动化和布局微型化等。
5) 65 nm technology
65nm工艺
1.
In this paper, 65 nm technology and its equipment are introduced.
介绍了65nm工艺及其设备。
6) nm/45 nm technology
65nm/45nm工艺
1.
The achievements to research the 65 nm/45 nm technology,the 157 nm F2 stepper technology,high k and low k insulating material are introduced in this paper.
介绍了65nm/45nm工艺的研究成果、157nmF2stepper技术、高k绝缘层和低k绝缘层等技术。
补充资料：alcobam nm
CAS：128-04-1
分子式：C3H6NNaS2
分子质量：143.20
中文名称：N,N-二甲氨基二硫代甲酸钠；二甲基二硫代氨基甲酸钠；N-二甲基二硫代甲酸钠；二甲基二硫代氨基甲酸钠盐；福美钠；二甲基二硫代氨基甲酸钠,二水；二甲氨基荒酸钠；二甲氨二硫代甲酸钠
英文名称：Sodium N,N-dimethyl dithiocarbaminate；Carbamodithioic acid, dimethyl-, sodium salt；alcobam nm；carbam-s；dimethyldithio-carbamic aci sodium salt；dimethyl-carbamodithioic acid sodium salt；ddc；dimethyldithiocarbamic acid, sodium salt；dmdk；methyl namate；nocceler s；sharstop 204；sodium dimethylaminocarbodithioate
性状描述：白色晶状固体。熔点110-115℃。
生产方法：由二甲胺与二硫化碳加成得到二甲氨二硫代甲酸（[79-45-8]），再与氢氧化钠溶液成盐而得。
用途：该品为消毒杀菌剂，可制成1%药皂使用。也用做丁苯橡胶聚合终止剂。橡胶促进剂TMTD和农药福美双的中间体。
分子式：C3H6NNaS2
分子质量：143.20
中文名称：N,N-二甲氨基二硫代甲酸钠；二甲基二硫代氨基甲酸钠；N-二甲基二硫代甲酸钠；二甲基二硫代氨基甲酸钠盐；福美钠；二甲基二硫代氨基甲酸钠,二水；二甲氨基荒酸钠；二甲氨二硫代甲酸钠
英文名称：Sodium N,N-dimethyl dithiocarbaminate；Carbamodithioic acid, dimethyl-, sodium salt；alcobam nm；carbam-s；dimethyldithio-carbamic aci sodium salt；dimethyl-carbamodithioic acid sodium salt；ddc；dimethyldithiocarbamic acid, sodium salt；dmdk；methyl namate；nocceler s；sharstop 204；sodium dimethylaminocarbodithioate
性状描述：白色晶状固体。熔点110-115℃。
生产方法：由二甲胺与二硫化碳加成得到二甲氨二硫代甲酸（[79-45-8]），再与氢氧化钠溶液成盐而得。
用途：该品为消毒杀菌剂，可制成1%药皂使用。也用做丁苯橡胶聚合终止剂。橡胶促进剂TMTD和农药福美双的中间体。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条