1) Technique of pulsed laser ablation deposition
激光烧蚀沉积技术
2) Laser Ablation
激光烧蚀沉积
1.
Deosition and Characterization of SiNanomaterial Produced by Pulsed Laser Ablation;
激光烧蚀沉积硅基纳米材料及其特性研究
4) Pulsed laser deposition(PLD)
脉冲激光沉积技术
1.
Potassium lithium niobate(KLN: K3Li2Nb5O15) thin films have been deposited on quartz glass by pulsed laser deposition(PLD) technique using a stoichiometric KLN target,which was prepared by solid reaction with K2CO3,Li2CO3,and Nb2O5 powders as starting materials.
以K2CO3、Li2CO3和Nb2O5为原料,采用固相反应法制备了铌酸钾锂陶瓷;以此为靶材,采用脉冲激光沉积技术在石英玻璃上沉积了铌酸钾锂薄膜,系统研究了沉积温度对铌酸钾锂薄膜组成与结构的影响。
6) PLD (pulse laser deposition)
PLD (脉冲激光沉积技术)
补充资料：激光烧蚀
分子式：
CAS号：
性质： 是电感偶合等离子体质谱(ICP-MS)联用仪器中用来分析固体样品的一种进样方式。固体样品制成片状置于样品台上，样品表面处于激光束聚焦点上。使用红宝石激光器。一次0.5J的激光轰击，能在样品上产生一个直径为0.5mm，深0.5mm的小坑，消耗样品0.2mg。让等离子体注射气流流过样品表面，再经一导管导入等离子炬，样品在焰炬中即可电离。激光烧蚀所用激光器为大功率、高重复激光器，大面积采样。这样采样均匀性好，而且不受样品种类限制。采用激光烧蚀质谱技术，可以对样品微区进行分析。
CAS号：
性质： 是电感偶合等离子体质谱(ICP-MS)联用仪器中用来分析固体样品的一种进样方式。固体样品制成片状置于样品台上，样品表面处于激光束聚焦点上。使用红宝石激光器。一次0.5J的激光轰击，能在样品上产生一个直径为0.5mm，深0.5mm的小坑，消耗样品0.2mg。让等离子体注射气流流过样品表面，再经一导管导入等离子炬，样品在焰炬中即可电离。激光烧蚀所用激光器为大功率、高重复激光器，大面积采样。这样采样均匀性好，而且不受样品种类限制。采用激光烧蚀质谱技术，可以对样品微区进行分析。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条