1) gas phase crystallization
汽相外延
2) vapor phase epitaxy
汽相外延<光>
3) HVPE
氢化物汽相外延
1.
The tilting and twisting in the GaN film grown by HVPE method were investigated and used to c alculate the dislocation density with FWHM value of the XRD rocking curve.
研究氢化物汽相外延法生长的氮化镓膜中倾斜和扭转现象 ,并应用到以X射线摇摆曲线的半峰宽计算氮化镓膜中位错密度。
4) HVPE
氢化汽相外延
5) hydride vapor phase epitaxy(HVPE)
氢化物汽相外延（HVPE）
6) MOCVD
金属有机汽相外延沉淀
参考词条
补充资料：金属有机化合物气相外延
金属有机化合物气相外延
metalorganic vapor phase epitaxy
物的缺点是价格昂贵。③在图形衬底上或在聚焦离子中选择生长化合物半导体薄膜材料。选择外延是一种直接控制横向尺寸的外延方法。它可以在亚微米级水平上从 实现典型的平面结构沉积至完成任意横向侧面沉 积。MOVPE在本质上通常是平面结构生长的。 但如果应用了卤化物为基的MO源，例如(CZHS) GaCI和(CZHS)ZAICI，则可以进行广阔的生长条 件范围内的GaAs和GaAIAs的选择外延。这样 形成的小面积、亚微米的选择异质结构表明，它是 选择外延在横向限定生长结构中最早应用的。③利 用应变层在超出晶格匹配的体系中扩大外延材料的 生长和应用。这方面原子层外延(ALE)是制备应 变层超晶格(SLS)结构的有力手段，因为ALE可 以被逐层生长模型的自限制机理控制为单原子层生 长。④生长新的化合物材料体系，例如GalnAssb 和GaAIA息Sb，InAssb，GalnP和AIGalnP， GaN和AIN，SIGe，Znse和CdZnTe/ZnTe以 及HgCdTe/CdTe等。此外，MOVPE也用于试制高温超导薄膜。由于MOVPE和LPE一样，需要足够的相图，溶解度和要求与衬底的晶格匹配，因此MOVPE的高温超导薄膜生长过程比较复杂，使之只获得部分的成功。MOVPE生长高温超导薄膜的质量较高和生长速率较快。今后在这方面尚需改进MOVPE技术，优化MO源和了解MO源的分解和表面反应等。在MOVPE材料制成的新器件中，主要有面发光激光器、短波长(0.62一0.67召m)的GalnP/GaAllnP发光管和激光器、应变量子阱激光器和量子阱红外探测器等。
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