2) mixed lithography
混合曝光
1.
PHEMT devices with T-shaped gate have been developed by using the mixed lithography—a new method combining the Electron Beam Lithography(EBL) with the normal contact lithography.
通过电子束和接触式曝光相结合的混合曝光方法 ,并利用复合胶结构 ,一次电子束曝光制作出具有 T型栅的 PHEMT器件 ,并对 0 。
3) coupled exposure meter
耦合曝光表
4) patterning exposure
图像形成曝光
5) Direct exposure imaging
直接曝光成像
6) CPM Cost Per thousand impressions
每千次曝光成本
补充资料：氨合成平衡速率氨平衡合成率
分子式：
CAS号：
性质：又称氨合成平衡速率氨平衡合成率。在不同的催化反应条件下，氨合成反应达到一定程度的化学平衡时氨合成的反应率或合成率。在实际氨合成生产中，不可能达到平衡氨合成率，在工业上设计氨合成塔时，就必须着眼于它的运行能最大限度地接近平衡氨合成率。
CAS号：
性质：又称氨合成平衡速率氨平衡合成率。在不同的催化反应条件下，氨合成反应达到一定程度的化学平衡时氨合成的反应率或合成率。在实际氨合成生产中，不可能达到平衡氨合成率，在工业上设计氨合成塔时，就必须着眼于它的运行能最大限度地接近平衡氨合成率。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条