1) nanocrystalline Si films
纳米硅溥膜
2) Nano-crystalline silicon films
纳米硅薄膜
1.
We review the low-dimenstional quantum characteristics of hydrogenated nano-crystalline silicon films in relation to their novel structure constitution, following which the mechanisms of electrical transport and visible light emission are described.
文章通过对纳米硅薄膜结构组分的研究，从实验和理论上共同探讨了其低维量子特征，并由此提出其电输运机制及其可见发光机理。
2.
By measuring transmission spectra of nano-crystalline silicon films,the refractive index, thickness,photo-absorption coefficient and optical gap of the nano-crystalline silicon films were investigated utilizing an established computation model.
通过测定纳米硅薄膜的透射谱,建立计算模型计算得出薄膜样品的折射率、厚度、吸收系数和光能隙。
3) nanocrystalline silicon film
纳米硅薄膜
1.
Using plasma enhanced chemical vapor deposition system we fabricated intrinsic and P- doped hydrogenated nanocrystalline silicon films.
通过等离子增强化学汽相沉积法 ,制备了本征和掺磷的氢化纳米硅薄膜 (nc- Si∶ H) ,研究了晶粒尺寸和掺杂浓度对纳米硅薄膜拉曼谱的影响 。
2.
Using plasma enhanced chemical vapor deposition system, intrinsic hydrogenated nanocrystalline silicon films and P-doped ones have been fabricat ed.
通过等离子增强化学气相沉积法 ,制备了本征和掺磷的氢化纳米硅薄膜 (nc- Si:H) ,研究了晶粒尺寸和掺杂浓度对纳米硅薄膜喇曼谱的影响 。
4) nano-crystalline silicon film
纳米硅薄膜
1.
Textured Si structure for nano-crystalline silicon film solar cell
纳米硅薄膜太阳能电池的绒面结构研究
2.
The nano-crystalline silicon films (nc-Si∶H)made by PECVD method possessed a series of novel properties.
摘要:使用PECVD薄膜淀积技术制成的纳米硅薄膜(nc-Si∶H)具有优异的性能。
5) nanocrystalline silicon films
纳米硅薄膜
1.
We report here the studies of electron spin resonance (ESR) and its related defect states in doped nanocrystalline silicon films (nc Si∶H).
研究了掺杂纳米硅薄膜 (nc ∶Si∶H)中的电子自旋共振 (ESR)及与之相关的缺陷态 。
6) silicon nanostructure
硅纳米薄膜
1.
To obtain an optimal and steady-going performance of these devices, a further understanding of energy transport in silicon nanostructures is needed.
论文以Boltzmann输运方程为理论基础开展了飞秒激光辐照下硅纳米薄膜中的超快能量输运过程研究。
补充资料：柳溥庆（1900～1974）
中国印刷技术专家。曾用名圃青。1900年12月 4日生于江苏武进，1974年10月24日在北京病逝。1913年进上海中国图书公司学徒，1920年任商务印书馆印刷厂影印部副部长。1924年经毛泽东介绍赴法国勤工俭学，先后在里昂国立美术学校、巴黎美术学校、巴黎印刷学院毕业，成绩优异。1926年加入中国共产党。1927年奉调至莫斯科中山大学学习。1929年后应聘在苏联《消息报》、《工人日报》印刷厂和莫斯科中央美术制版厂任技师，传授印刷技艺。1931年回国。1933年在上海参与发起成立中国印刷学会，创办出版《中国印刷》杂志，建立华东美术照相制版印刷传习所，发明 "红墨水" 修版法(1932)、汉字照相排字机(1935)等。抗日战争期间，在上海秘密印制苏北解放区通用的四达银行和江淮银行钞票,并在苏北筹建印钞厂等。中华人民共和国成立后,任中国人民银行总工程师兼印制技术研究所所长，为发展我国印钞事业作出贡献。1953年在民主德国创造"凹版印钞多色接纹逆转擦版法"，协助德方改进中国订购的巨型凹印机，使该机印钞四色一次完成，创当时世界印钞技术中工效高、防假效能好的新方法。其后又有网目凸版和平凸版电解腐蚀法、 PVA平凹版制版工艺及自动调温高效烘票等发明创造。著有《近代平版印刷术之理论与实施》、《照相凹版术》、《蛋白版的原理和方法》，译著有《欧美印刷名著摘要》等。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条