1) electron optical imaging system
电子光学成像系统
1.
Test and verification of temporal aberration theory for electron optical imaging systems by an electrostatic concentric spherical system model;
静电聚焦同心球系统验证电子光学成像系统的时间像差理论
2.
Theory of temporal aberrations for electron optical imaging systems by direct integral method;
直接积分法研究电子光学成像系统的时间像差理论
2) imaging electron optical systems
成像电子光学系统
3) imaging of optical systems
光学系统的成像
5) optical imaging system
光学成像系统
1.
Aberration correction of a large aperture optical imaging system by holography;
利用激光全息技术校正大口径光学成像系统像差
2.
This paper discribes a optical imaging system which is used to measure colour purity drift,electron beam landing screen deviation and 3 beam misconvergence,and the optical path feature,the selected method of magnification and the aberration correction are described.
本文讨论了彩色显像管色纯漂移，电子束着屏误差，失会聚量测试用的光学成像系统的光路特点、设计原则、放大倍率的选定及光路选型及像差校正方法。
6) 4f optical imaging system
4f光学成像系统
1.
Both of the methods are based on the 4f optical imaging system.
这两种技术都是建立在4f光学成像系统基础之上的。
补充资料：电子光学
| 电子光学 electron optics 研究电子在电磁场中运动和电子束在电磁场中聚焦、成像、偏转等规律的学科。1926年H.布许发表关于磁聚焦的论文，30年代W.格拉叟和O.谢尔赤发表关于旋转对称系统电子光学的理论，这些奠定了电子光学的理论基础。从此，电子光学开始形成为一门独立的学科。电子光学同普通光学有许多相似之处。例如凸透镜可使一束平行光线聚焦到一个点上；而某些轴对称的电磁场（称为电子透镜）也可以使平行的电子束聚集到一点。在电子光学器件和仪器中，除采用电子透镜外，还常应用垂直于电子束运动方向的电场和磁场使电子束偏转。为了分析、研究或设计电子光学系统，必须精确地求解电磁场并计算出电子轨迹 ，通常采用电子计算机求解。在电子光学器件和仪器中，若电子束被限制在离轴很近的范围内，电子轨迹与轴的交角很小（即满足傍轴条件）时，电子透镜所成的像是理想像或称高斯像。实际轨迹不可能完全满足傍轴条件，因此实际形成的像总是和理想高斯像有一定的差别。这种差别称为几何像差，它同普通光学中的像差十分相似。几何像差的大小决定成像品质的优劣。几何像差大小及其克服办法也是电子光学学科研究内容之一。广义的电子光学还包括离子光学。电子光学是设计电子束管和电子离子仪器的理论基础。电子光学已渗入到无线电电子学、电子显微学、质谱学、电子能谱学、表面物理、材料科学、高能物理等领域中，凡是涉及到产生、控制和利用带电粒子束的问题，都需要运用电子光学成果。 |
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参考词条