1) Ni silicide
镍硅化物
1.
A novel silicide technology to improve the thermal stability of the conventional Ni silicide is studied by adding a small quantity of Mo element in Ni flim.
报导了在镍薄膜中掺入少量Mo提高了镍硅化物的热稳定性 。
2) Ni_1-xPtxSi
镍铂硅化物
3) NiSi
[英]['naisai] [美]['naɪsaɪ]
硅化镍
1.
"Top-Down" Preparation of NiSi Nanowire;
“自上而下”制作硅化镍纳米线
4) nickel-silicon nitride
镍氮化硅
5) nickel-silicon carbide
镍-碳化硅
1.
Study of nickel-silicon carbide composite codeposition;
镍-碳化硅复合共沉积的研究
6) nickel silicide film
硅化镍膜
1.
Polycrystalline nickel silicide film formed on thin oxide by rapid thermal annealing (RTA) has been investigated by capacitance voltage ( C V ) measurements.
本文研究了在薄二氧化硅层上快速热退火 (RTA)形成的多晶硅化镍膜的电特性。
补充资料：硅化物陶瓷
分子式：
CAS号：
性质：硅和钼、钨、钽等难熔硅化物为主要成分的陶瓷。按结构特征可分为两类：一类是具有金属结构的相，硅原子置换金属原子时晶格类型不变。另一类是复杂结构的硅化物。一般硅与金属形成的化合物熔点低、硬度低，在高温下易发生蠕变。只有钼、钨、钽的硅化物熔点超过2000℃，并具有优良的高温抗氧化性能。可采用钼、钨、钽金属与硅直接化合法、上述金属氧化物的碳还原法、铝热还原法和气相沉积法等制取钼、钨、钽的硅化物粉末。然后按特种陶瓷工艺在氮气等保护气氛下烧结成陶瓷制品。主要用作高温电热元件、热交换器和某些高温零部件。
CAS号：
性质：硅和钼、钨、钽等难熔硅化物为主要成分的陶瓷。按结构特征可分为两类：一类是具有金属结构的相，硅原子置换金属原子时晶格类型不变。另一类是复杂结构的硅化物。一般硅与金属形成的化合物熔点低、硬度低，在高温下易发生蠕变。只有钼、钨、钽的硅化物熔点超过2000℃，并具有优良的高温抗氧化性能。可采用钼、钨、钽金属与硅直接化合法、上述金属氧化物的碳还原法、铝热还原法和气相沉积法等制取钼、钨、钽的硅化物粉末。然后按特种陶瓷工艺在氮气等保护气氛下烧结成陶瓷制品。主要用作高温电热元件、热交换器和某些高温零部件。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条