1) The Next Generation Lithography
下一代光刻技术
2) NGL
下一代光刻
1.
X-ray lithography (XRL) is one of the next generation lithography techniques (NGL), which has the probability of industrialization.
光刻技术是推动集成电路制造业不断向前发展的关键技术 ,X射线光刻技术是下一代光刻技术的一种 ,具有产业化的应用前景。
2.
The status of extreme ultraviolet lithography (EUVL),as the technology for nextgeneration lithography (NGL), in a rapidly developing stage is analyzed.
分析了极紫外光刻技术作为下一代光刻技术的首选技术目前飞速发展阶段的状况,表明欧、美、日、俄等国家和地区在该领域集中了大量的人力、物力的目标是将光刻精度提高到50nm。
3.
The status and tendency of next generation lithography (NGL) is presented by reviewing the evolution and the challenge of optical lithography.
通过介绍光刻技术的演变和所面临的挑战 ,揭示下一代光刻技术的发展潜力和研究现状。
3) next generation lithography
下一代光刻
1.
Development status of the next generation lithography is discussed briefly.
介绍了65nm和45nm节点国际主流光刻机的最新研发进展,重点分析了目前提高光刻机性能的关键技术,讨论了目前各公司的主流机型及其性能参数,最后简要介绍了下一代光刻技术的研究进展。
4) Next Generation Lithography(EGL)
下一代光刻机
5) NxTest
下一代测试技术
1.
Prospect of NxTest Core Technologies Based on LM-STAR Case;
LM-STAR案例分析及下一代测试技术展望
补充资料：一代不如一代
1.谓世代相传越来越差。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条