1) protection shield
挡光层
1.
This paper analyzes the producing of the photogenerated leakage current based on the optics and the semiconductor theory, indicats that the primary factors are the light source power and the thickness of the protection shield.
从光学和半导体器件物理两方面出发,分析了光生漏电流的产生机理,指出了影响漏电流大小的主要因素是入射光功率和挡光层的厚度。
3) barrier film photocell
阻挡层光电管
4) photo voltaic cel
阻挡层光电元件
5) gas-filled barrier-layer cell
充气阻挡层光电池
补充资料：光透明薄层电极
分子式：
CAS号：
性质：光透电极与薄层电解池相结合的一种电极装置。光束垂直透过光透电极的玻片和高度透明的微孔栅金属，得到光吸收物种的可见光谱，主要用于测量电极反应最终产物浓度的实时信息，获得电活性(特别是兼具生物活性物质)氧化还原对的标准电极电势和参与电子数n的数据。
CAS号：
性质：光透电极与薄层电解池相结合的一种电极装置。光束垂直透过光透电极的玻片和高度透明的微孔栅金属，得到光吸收物种的可见光谱，主要用于测量电极反应最终产物浓度的实时信息，获得电活性(特别是兼具生物活性物质)氧化还原对的标准电极电势和参与电子数n的数据。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条