1) bottom side alignment
底面对准
1.
Design of bottom side alignment of lithography;
底面对准曝光机对准系统设计
2.
The fundamental principle of lithography equipment bottom side alignment(BSA) system was introduced.
介绍了光刻机底面对准系统的基本原理,并分析了传统底面对准系统存在的缺点,给出了基于USB2。
3.
The principle of bottom side alignment,the stage structure and the selection of the shape and size of the alignment mark are discussed.
主要论述了底面对准光刻机的对准原理、工件台结构以及对准标记的形式和尺寸的选
2) baseplane
['beisplein]
基准面底板
3) Double?Sided alignrment
双面对准
4) seal face alignment
密封面对准
5) ground reference plane
底部基准平面
6) Unsymmetrical Slope Chamber Bottom(USCB)
非对称坡面腔底
补充资料：连底连面
1.犹总共。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条