1) photomask
['fəutəumɑ:sk]
光掩模
1.
Study of Competition Strategy for Toppan Photomask Company LTD, Shanghai;
上海凸版光掩模有限公司竞争战略研究
2.
Acted as the process base of wafer fab for the past several years while the use of CAR resist is rapidly increasing, the DNQ resist still works well in photomask fabrication due to the 4X or 5X image reduction transferred from photomask to wafer.
THMR-IP系列光刻胶是基于DNQ材料的一种i线光刻胶,被广泛用于i线光刻机的硅片产品及i线图形发生器的光掩模产品上。
2) optical mask
光学掩模
1.
Design for optical mask of micro sun sensor;
微型太阳敏感器光学掩模的镀膜设计
4) Grating Masks
光栅掩模
1.
The Control Study of Profiles of Photoresist Grating Masks;
光刻胶光栅掩模槽形的控制研究
6) photomask set
光掩模组
补充资料：光学掩模版
分子式：
CAS号：
性质： 在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。
CAS号：
性质： 在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条