1) sub-65 nm
亚65nm
2) 65 nm chip
65nm芯片
1.
In 65 nm chip design,the design for manufacturing(DFM),analysis methods and making concerted effort should be regaraed.
65nm芯片的设计需要采用可制造性设计(DFM)、多种分析方法和团队通力合作的精神;65nm芯片制造工艺需采用193nm浸入式光刻技术、等效离子掺杂技术、原子层沉积技术、低应力CMP工艺及无损伤清洗技术;65nm芯片制造设备需要全自动化和布局微型化等。
3) 65 nm technology
65nm工艺
1.
In this paper, 65 nm technology and its equipment are introduced.
介绍了65nm工艺及其设备。
4) nm/45 nm technology
65nm/45nm工艺
1.
The achievements to research the 65 nm/45 nm technology,the 157 nm F2 stepper technology,high k and low k insulating material are introduced in this paper.
介绍了65nm/45nm工艺的研究成果、157nmF2stepper技术、高k绝缘层和低k绝缘层等技术。
5) nm node
65nm节点
6) 90～65 nm node technology
90～65nm节点技术
补充资料：2,2'-[亚甲基二(2,1-亚苯基氧亚甲基)]二环氧乙烷
CAS：54208-63-8
分子式：C19H20O4
中文名称：双酚二环甘油醚
2,2'-[亚甲基二(2,1-亚苯基氧亚甲基)]二环氧乙烷
英文名称：2,2'-[methylenebis(2,1-phenyleneoxymethylene)] bis-Oxirane
Methylenebis(o-phenol), 3-propylene oxide ether
2,2'-[methylenebis(2,1-phenyleneoxymethylene)]bis-oxiran
分子式：C19H20O4
中文名称：双酚二环甘油醚
2,2'-[亚甲基二(2,1-亚苯基氧亚甲基)]二环氧乙烷
英文名称：2,2'-[methylenebis(2,1-phenyleneoxymethylene)] bis-Oxirane
Methylenebis(o-phenol), 3-propylene oxide ether
2,2'-[methylenebis(2,1-phenyleneoxymethylene)]bis-oxiran
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条