1) semi-additive process
半加成法工艺
1.
, semi-additive process and polyimide etching process.
概述了适应高密度化和高速化要求的FPC新技术:电沉积聚酰亚胺工艺,半加成法工艺、聚酰亚胺蚀刻工艺。
2) false add; half-add
半加
3) selective hydrogenation
半加氢
1.
This paper represents the advances in the researches and industrial applications of the catalysts both domestic and abroad for trace acetylene-removal in ethylene by selective hydrogenation, and puts forward the development trends of the catalyst.
对乙烯中微量乙炔通过半加氢脱除的国内外典型催化剂的应用进行了介绍,并对催化剂的研究进展进行了 综述,从而提出催化剂的研究发展方向。
4) half adder
半加器
1.
Finally a novel half adder circuit is realized using these logic circuits.
基于单电子晶体管的I-V特性和MOS晶体管的逻辑电路设计思想,提出了1个单电子晶体管和MOS晶体管混合的反相器电路,进而推导出其它基本逻辑门电路,并最终实现了一个半加器电路。
5) semi-additive process
半加成法
6) half adder tree
半加树
1.
The algorithm combines the recognition technique of different coding methods in multiplier,the extraction technique of half adder graph(HAG) in addition circuit,and the recognition technique of half adder tree structure of partial product addition circuit.
该算法结合了乘法器的编码方式识别技术、加法电路的半加树提取技术和部分积加法电路的架构识别技术来提取乘法电路的实现结构,以此生成与实现电路结构相似且逻辑正确的网表。
参考词条
补充资料：半导体工艺技术面临重大飞跃
Intel、摩托罗拉、IBM等公司与美国三个国家实验室昨日披露了超紫外线光刻技术的步进机（stepper）原型。
专家预估，EUV初步将投入0.07微米工艺的试产，未来至少可将芯片工艺技术带入0.03微米的领域，甚至不无直逼0.007微米工艺的可能。
ITdoor援引亚洲华尔街日报昨日报导称，由于部分研究人员早已预估，除非产业采用缩小芯片的电路尺寸技术，否则长期以来让半导体产业维持成长的摩尔定律可能会在2005年失效。为此，半导体产业已相继投入新工艺技术的开发工作。如今，初步的开发成果即将公布，由Intel、IBM、摩托罗拉等公司所组成的企业联盟与美国三个国家实验室，昨日在加州桑迪亚国家实验室展示采用EUV技术的步进机原型。该企业联盟投入EUV的开发经费已逾2.5亿美元，并期许EUV可让摩尔定律的寿命再延长至少10年。
EUV技术是以超紫外线将超精的电路线显影于晶圆上，其产生的电路较传统的光束光刻技术缩小7～20％。目前产业界最精密的工艺技术是0.13微米，上周Intel才宣布以0.13微米工艺产出芯片，但绝大部分仍将采用传统的制造技术。
专家预估，EUV初步将投入0.07微米工艺的试产，未来至少可将芯片工艺技术带入0.03微米的领域，甚至不无直逼0.007微米工艺的可能。
ITdoor援引亚洲华尔街日报昨日报导称，由于部分研究人员早已预估，除非产业采用缩小芯片的电路尺寸技术，否则长期以来让半导体产业维持成长的摩尔定律可能会在2005年失效。为此，半导体产业已相继投入新工艺技术的开发工作。如今，初步的开发成果即将公布，由Intel、IBM、摩托罗拉等公司所组成的企业联盟与美国三个国家实验室，昨日在加州桑迪亚国家实验室展示采用EUV技术的步进机原型。该企业联盟投入EUV的开发经费已逾2.5亿美元，并期许EUV可让摩尔定律的寿命再延长至少10年。
EUV技术是以超紫外线将超精的电路线显影于晶圆上，其产生的电路较传统的光束光刻技术缩小7～20％。目前产业界最精密的工艺技术是0.13微米，上周Intel才宣布以0.13微米工艺产出芯片，但绝大部分仍将采用传统的制造技术。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。