补充资料：photoresist agent and its complete set chemicals

分子式：
CAS号：

性质：光致抗蚀剂又称光刻胶，它是一种光敏高分子聚合物。当它受到光能照射时，分子内部发生聚合或分解反应，电子工业在微细加工中利用这种特性能得到所需的几何图形。光刻胶具有光化学、抗蚀、一定的机械及耐热特性，使用范围已愈来愈广，除在电子工业使用外，还能用于印刷工业中凸版的刻蚀、电镀工业中的保护层、精密仪器加工中的光栅、应力片、钟表加工等。一般光刻胶由成膜材料、光敏材料、溶剂及添加剂等组成，光刻胶可按显影后在光刻胶涂膜上所形成的图形与掩模图形关系分为正负型两种，与掩模图形相合的为正性光刻胶，反之为负性光刻胶。又可按曝光光源类型分成紫外光刻胶及辐射光刻胶。在光刻过程中所使用的显影剂、去膜剂、漂洗剂及稀释剂统称光刻胶配套化学品。

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