1) the maximal frequent induced subtree
最大频繁induced子树
2) frequent Induced subtree
频繁Induced子树
1.
According to the type of frequent subtree patterns frequent subtree mining is classified into two categories:frequent Induced subtrees mining and frequent Embedded subtrees mining.
对各种主要的频繁子树挖掘算法进行综述与分析,主要包括频繁Induced子树挖掘与频繁Embedded子树挖掘;讨论了挖掘算法中使用的两种技术:基于候选生成-测试的方法和基于模式-增长的方法;对各典型算法的性能进行了实验分析比较。
3) closed frequent induced subtree
闭合频繁Induced子树
1.
Different from other algorithms,it goes on clustering based on the closed frequent induced subtrees,and doesn\'t need comparing the similarity between trees.
与其它相关算法不同,该算法基于闭合频繁Induced子树进行聚类,聚类过程中不需树之间的两两相似度比较,而是挖掘GML文档数据库的闭合频繁Induced子树,为每个文档求一个闭合频繁Induced子树作为该文档的代表树,将具有相同代表树的文档聚为一类。
4) Maximal frequent subtree
最大频繁子树
5) Maximal Frequent Item Set Tree(MFI-Tree)
最大频繁项集树
6) maximal frequent subgraph
最大频繁子图
补充资料：laser induced chemical vapor deposition
分子式：
CAS号：
性质： 利用激光束的光子能量激发和促进化学气相反应的沉积薄膜方法。在光子的作用下，气相中的分子发生分解，原子被激活，在衬底上形成薄膜。这种方法与常规的化学气相沉积(CVD)相比，可以大大降低衬底的温度，防止衬底中杂质分布截面受到破坏，可在不能承受高温的衬底上合成薄膜。与等离子体化学气相沉积方法相比，可以避免高能粒子辐照在薄膜中造成损伤。本方法所用设备是在常规的化学气相沉积设备基础上添加激光器、光路系统及激光功率测量装置。用本方法制备的SiO2及Si3N4薄膜时，衬底温度可低至380℃。
CAS号：
性质： 利用激光束的光子能量激发和促进化学气相反应的沉积薄膜方法。在光子的作用下，气相中的分子发生分解，原子被激活，在衬底上形成薄膜。这种方法与常规的化学气相沉积(CVD)相比，可以大大降低衬底的温度，防止衬底中杂质分布截面受到破坏，可在不能承受高温的衬底上合成薄膜。与等离子体化学气相沉积方法相比，可以避免高能粒子辐照在薄膜中造成损伤。本方法所用设备是在常规的化学气相沉积设备基础上添加激光器、光路系统及激光功率测量装置。用本方法制备的SiO2及Si3N4薄膜时，衬底温度可低至380℃。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条