1) MO thin films
磁-光薄膜
1.
In this paper,according to the choice of the MO thin films,the design of the eddy current exciting device and the development of the image processing approaches,the factors which can affect the reso.
磁-光显微成像检测由于受到光强的变化、磁-光薄膜磁畴的变化等外界因素影响,检测系统获取的磁-光图像的分辨率不高。
2) magneto-optical film
磁光薄膜
1.
The sample used here is a magneto-optical film Prefared by liquid Phase epitaxy.
论述了在交变磁场下测量磁光薄膜动态法拉第效应的原理和方法。
3) magneto-optical films
磁光薄膜
1.
Ag/TbFeCo/Si( 100) magneto-optical films was prepared by DC-magnetron sputtering.
利用直流磁控溅射法制备出Ag/TbFeCo／Si(100)磁光薄膜,利用可变入射角椭圆偏振光谱仪测量了其可见光区的光学常数,给出薄膜介电函数实部和虚部随入射光子能量的变化规律,同时把Ag／Si、Ag／TbFeCo／Si和TbFeCo／Si的光谱进行了比较。
4) magneto-optic film
磁光薄膜
1.
The dependence of magnetostatic wave(MSW)modes and its bandwidth on the extermal DC bias magnetic fields in the magneto-optic film was illustrated.
本文完整地展现了磁光薄膜中任意倾斜的外加直流偏置磁场对微波静磁波激发模式及其带宽的影响,实现了对不同静磁模的统一考虑,为进一步分析磁光Bragg器件的衍射性能提供理论基础。
5) YIGmagneto-opticthinfilm
YIG磁光薄膜
6) TbFeCo magneto optical film
TbFeCo磁光薄膜
补充资料：稀土石榴石单晶薄膜磁光材料
分子式：
CAS号：
性质：用外延生长法在常用衬底Gd3Ga5O12单晶(111)晶面上生成稀土石榴石单晶薄膜材料。恒温5～30min，可得薄膜2～30μm。利用生长工艺参数的变化可制取不同组成和性能的磁光薄膜材料。
CAS号：
性质：用外延生长法在常用衬底Gd3Ga5O12单晶(111)晶面上生成稀土石榴石单晶薄膜材料。恒温5～30min，可得薄膜2～30μm。利用生长工艺参数的变化可制取不同组成和性能的磁光薄膜材料。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条