1) SiO 2 TiO 2 chemical treatment
减反薄膜
3) antireflection multilayer
多层减反射薄膜
1.
A method to design antireflection multilayer using the theory of inhomogeneous coatings was presented.
利用非均匀膜系理论设计宽角度多层减反射薄膜的方法,从理论分析了宽角度情况下的偏振光产生透过率不同的原因,选取了MgF2、HfO2和TiO23种材料作为折射率材料,选取BK7作为基底材料,模拟设计了光谱区在400～700nm波段、入射角为0～70°的多层减反射薄膜,其P光和S光透过率达90%以上。
2.
A method of designing antireflection multilayer using the theory of inhomogeneous coatings was presented.
阐述了利用非均匀膜系理论设计宽角度多层减反射薄膜的方法 ,从理论上分析了在宽角度的情况下 ,偏振光产生透过率不同的原因 ,选取了Ta2 O5和SiO2 两种材料作为折射率材料 ,选取BK7作为基底材料模拟设计了光谱区在 6 0 0～ 70 0nm波段、入射角为 0°～ 80°之间的宽角度多层减反射薄膜 ,探索出了一条新型膜系设计的途径 ,其优化结果是较为理想的。
3.
Antireflection multilayer of1500～1600nm andincidence angle from 0Oto 80Ohave been designed using Ta2O5and SiO2 as materials of multilayer,using BK7 as material of substrate.
本文阐述了利用非均匀膜系理论设计宽角度多层减反射薄膜的方法,从理论上分析了在宽角度的情况下,偏振光产生透过率不同的原因,选取了Ta2O5和SiO2两种材料作为等效折射率材料,选取BK7作为基底材料模拟设计了光谱区在1500～1600nm波段、入射角为0度到80度之间的宽角度多层减反射薄膜,探索出了一条新型膜系设计的途径,其优化结果是较为理想的。
4) Ta 2O 5 antireflection thin film
Ta_2O_5减反射薄膜
5) TiO2 antireflection thin film
TiO2减反射薄膜
补充资料：反饥饿、反内战、反迫害运动
| 反饥饿、反内战、反迫害运动 中国解放战争时期国民党统治区广大学生的民主爱国运动。1947年，国民党统治区爆发了空前严重的经济危机，广大人民反对国民党统治的斗争日益高涨。5月4日，上海学生上街进行反对内战的宣传，遭到国民党军警的镇压。各校学生在中国共产党的领导下立即罢课抗议并到市政府请愿。9日，近2万名电车、汽车及丝织工人罢工游行，要求增加工资。15日，南京中央大学等校3000余人，赴教育部进行反内战请愿。16日，北京大学院系联合会提出“反饥饿、反内战”的口号，北平各大学相继举行了罢课。学生运动的蓬勃发展，使国民党当局极为惊恐，于18日颁布《维持社会秩序临时办法》，严禁10人以上的请愿和一切罢工罢课游行示威。5月20日，京沪苏杭地区16个专科以上学校6000余名学生在南京举行挽救教育危机联合请愿游行，并向国民参政会请愿，遭到国民党宪兵、警察、特务的殴打，百余名学生被打伤，20多人被抓走。同日，平津学生也分别举行反饥饿、反内战的游行活动，天津学生在示威中遭毒打，50余名学生被军警殴伤，造成震惊全国的五二○血案。血案发生后，中国共产党提出反迫害的口号，把运动推向新的阶段。上海、南京、天津、北平等60多个城市的学生纷纷行动起来，举行罢课和上街游行示威。6月19日各地学生代表在上海集会，成立了中国学生联合会。学生运动与工人、农民、市民的斗争结合在一起，形成了反对蒋介石反动统治的第二条战线，有力地配合了人民解放军的作战。
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