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1)  Vapor deposition technologies
气相沉积技术
2)  deposition techniques
沉积技术
1.
The advantages and disadvantages in physical deposition techniques of nitride coatings with multi-constituent and multilayer were analyzed.
综述了刀具氮化物涂层的研究进展及发展趋势,分析了制备多元多层氮化物涂层的物理沉积技术及其优劣势。
3)  vapor phase deposition technique
气相淀积技术
4)  vapor deposition
气相沉积
1.
Fabricating ceramic hard thin films by vapor deposition techniques;
气相沉积技术制备TiN类硬质膜
2.
The fabrication of TiO_2 nanotubules in porous anodic aluminum template with vapor deposition;
利用气相沉积法在模板中制备TiO_2纳米管的研究
3.
Synthesis of monodisperse Cu nano-particle template by vapor deposition
气相沉积法制备单分散Cu纳米颗粒模板
5)  vapor deposit
气相沉积
1.
Organic silicon were deposited on silicon surface by chemical vapor deposition(CVD).
通过化学气相沉积的方法,在具有规则微形貌的硅片表面沉积硅的有机物制备出了超疏水表面,进而对表面的润湿性进行了对比。
6)  chemical vapor deposition
气相沉积
1.
Ball-like diamond deposited on the chromized layer,P-Si(100) and Al2O3 substrates has been investigated using the hot-filament chemical vapor deposition equipment.
用热丝化学气相沉积设备研究了钢渗铬层、P-Si(100)基片和三氧化二铝基底表面形成的球形金刚石。
2.
Ti/HMS samples were prepared by hydrothermal synthesis(HTS)and chemical vapor deposition(CVD)methods and then silylated by trimethylchlorosilane(TMCS)and hexamethyldisilazane(HMDSZ)in a vapor phase.
分别用水热法和气相沉积法制备了Ti/HMS分子筛,采用三甲基氯硅烷(TMCS)和六甲基二硅氮烷(HMDSZ)对Ti/HMS样品进行了气相硅烷化,并用X射线衍射、N2吸附、红外光谱、29Si核磁共振和紫外-可见光谱对样品进行了表征。
3.
The MoW alloy film with nano-structure has been prepared on Al_2O_3 ceramic substrate using Metal Organic Chemical Vapor Deposition of Mo(CO)_6 and W(CO)_6.
利用羰基金属气相沉积方法,在Al2O3陶瓷基片上,以Mo(CO)6+W(CO)6为源,制备了MoW纳米合金晶膜。
补充资料:化学气相沉积技术在冷拔模具上的应用

化学气相沉积(CVD)技术是近年来国际上发展和应用较广的一项先进技术。上海冷拉型钢厂将这项技术应用于模具,取得显著效益。


一、概况


化学气相沉积(CVD)技术是近年来国际上发展和应用较广的一门先进技术,尤其在电子、半导体、机械、仪表、宇航等领域的应用发展极其迅速。所谓化学气相沉积(简称CVD),就是利用化学反应的原理,从气相物质中析出固相物质沉积于工作表面形成镀层薄膜的新工艺。通常使用的涂层有:TiC、TiN、Ti(C.N)、Gr7O3、Al2O3等。以上几种CVD的硬质涂层基本具备低的滑动摩擦系数,高的抗磨能力,高的抗接触疲劳能力,高的表面强度,保证表面具有足够的尺寸稳定性与基体之间有高的粘附强度。


该项技术在冷拔模具上的推广应用,对传统的冷拔模具的制造是个突破。原来模具的抗磨能力,抗接触疲劳能力及摩擦系数等机械性能是靠模芯材料来实现的,采用该技术后,基体材料的这些性能已为涂层所替代。


二、工艺特点


1. 由于CVD技术用于模具表面处理,大大增强了模具基体的强度,故采用硬质合金模具冷拔时的工况须稳定,减少冲击因素,以免模具崩裂。


2. CVD硬质深层只有10μm厚,带来了模具无法重磨的矛盾,因此在制模前要预计模芯镶套,以及材料拉拔过程中反弹等影响尺寸精度等因素。


3. TiN涂层置于空气下,升温至600℃开始氧化,并随温度升高,时间增加氧化愈严重,被氧化的深层将失去抗磨、抗粘结等性能,从而影响模具的寿命,因此CVD模具镶套宜采用冷压配的方法,若采用热镶套,温度应控制在600℃以下。


三、应用情况


1. 目前主要对高速连续拉拔模具、不锈钢和小规格的异型模具所用YG8硬质合金模芯进行高温气相沉积(900℃~1050℃),主要沉积物为TiC、Ti(C.N)、TiN三种复合涂层。其中与硬质合金直接接触的是TiC沉积,它与基体有良好的结合强度,厚4μm;中间一层为Ti(C.N)沉积,厚4μm;表面一层为TiN沉积,呈金黄色,厚2μm。


2. CVD技术用于冷拔模具,在型钢拉拔过程中,效果是十分明显的,主要表现在:模具寿命提高,一般情况下,比未经CVD处理模具寿命提高3倍以上,润滑条件大为改善,尤其在高速拔制和不锈钢材料拔制,效果尤为明显;模具耐磨性好,产品尺寸稳定,摩擦系数低,拔制力下降。


目前CVD技术主要对硬质合金模具进行表面处理,今后趋势是以模具钢来替代硬质合金。此类模具的综合性能将更为完美。

说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。
参考词条