1) Salt-tolerant plantlet regeneration
耐盐植株再生
3) regenerated plant
再生植株
1.
The regenerated plant gained from somatic cell cultrue of Actinidia arguta;
软枣猕猴桃体细胞培养获得再生植株
2.
Results & Conclusion:The results showed that gene HS1pro1 had been inserted into tomato genome after PCR analysis of regenerated plants.
通过农杆菌介导法将HS1pro1基因导入无菌番茄外植体中,获得抗根结线虫转化再生植株。
3.
The chromosome karyotypes and the chromosome variation of regenerated plants of perennial ryegrass(Lolium perenne L.
对多年生黑麦草核型及组织培养再生植株细胞染色体变异进行了观察研究。
4) plant regeneration
植株再生
1.
Tissue culture and plant regeneration of Ixeridium sonchifolium;
抱茎苦荬菜的组织培养及植株再生
2.
Study on Establishment of System with High Frequency for Genetic Transformation of Phellodendron chinese and Plant Regeneration;
川黄柏高效遗传转化系统建立和植株再生研究
3.
Study on tissue culture and plant regeneration of Nervilia fordii;
青天葵组织培养及植株再生的研究
5) regenerated plantlet
再生植株
1.
Objective To develop the technique of artificial cultivation of Glycyrrhiza uralensis on salina by exploring regenerated plantlet from the salt-tolerant callus.
目的通过对耐盐性甘草愈伤组织再生植株研究,促进在盐碱滩人工栽培甘草技术的发展。
2.
Objective: To set up the fittest medium and optimum condition for leaves from Rehmannia glutinosa to form regenerated plantlets directly and to induce microtubers.
目的 :研究地黄叶片器官发生的形态建成 ;建立诱导地黄叶片直接再生植株和试管小地黄的最佳培养基和培养条件。
3.
0,normally on such media explants dedifferentiation forming callus needed 7 d,forming embryoids 15 d,set up regenerated plantlets with shoot and adventitious root 30 d.
2,切段在这些培养基上7d脱分化出愈伤组织,15d再分化出胚状体,30d可形成根苗完整的再生植株,增殖倍数达6~10。
6) Plantlet regeneration
植株再生
1.
Somatic embryogenesis and plantlet regeneration of Aconitum coreanum;
黄花乌头体细胞胚胎发生及其植株再生
2.
Tissue culture of shoot-tip and plantlet regeneration of Camptotheca acumunata;
喜树茎尖组织培养与植株再生
3.
Tissue culture of stem segment and plantlet regeneration of Dendrobium nobile;
金钗石斛的茎段组织培养与植株再生
补充资料：光敏耐腐蚀耐电镀印料
分子式：
CAS号：
性质：系指通过紫外光照射固化的一类抗蚀印料，分为:(1)耐腐蚀型，稀碱溶液去膜，能耐酸性腐蚀；溶剂去膜，能耐酸及碱腐蚀。(2)耐电镀抗蚀型，稀碱溶液去膜，耐酸性电镀液，溶剂去膜，耐弱碱性、酸性电镀液；(3)堵孔型印料，碱溶；(4)加强抗蚀型，去除型(耐化学镀铜)和永久覆盖型。由碱溶性感光高分子树脂、光敏引发剂、活性稀释剂、触变剂、流平剂、着色剂等组成。将上述组分在预混合器中进行搅拌混合，再经三辊机碾磨后配制成产品。无溶剂，无气味，不污染环境，很少有针孔。在印刷中黏度不变化，具有良好的丝网印刷性能。稀碱溶液去膜，能耐三氯化铁、氯化铜、过硫酸铵等酸性蚀刻，耐硫酸铜、铅锡合金及金银等酸性电镀液腐蚀。用于丝网图形蚀刻法和图形电镀法制造印制电路图形，也可用于化学蚀刻法制造精密的金属零件和图形。
CAS号：
性质：系指通过紫外光照射固化的一类抗蚀印料，分为:(1)耐腐蚀型，稀碱溶液去膜，能耐酸性腐蚀；溶剂去膜，能耐酸及碱腐蚀。(2)耐电镀抗蚀型，稀碱溶液去膜，耐酸性电镀液，溶剂去膜，耐弱碱性、酸性电镀液；(3)堵孔型印料，碱溶；(4)加强抗蚀型，去除型(耐化学镀铜)和永久覆盖型。由碱溶性感光高分子树脂、光敏引发剂、活性稀释剂、触变剂、流平剂、着色剂等组成。将上述组分在预混合器中进行搅拌混合，再经三辊机碾磨后配制成产品。无溶剂，无气味，不污染环境，很少有针孔。在印刷中黏度不变化，具有良好的丝网印刷性能。稀碱溶液去膜，能耐三氯化铁、氯化铜、过硫酸铵等酸性蚀刻，耐硫酸铜、铅锡合金及金银等酸性电镀液腐蚀。用于丝网图形蚀刻法和图形电镀法制造印制电路图形，也可用于化学蚀刻法制造精密的金属零件和图形。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条