1) film mulch on ridge
垄膜覆盖
1.
The results indicated that the optimal technical combination for the moderate infiltration soil area being suitable to film mulch on ridges was: hole diameter 5cm,film ho.
根据目前该技术应用情况,选择了开孔直径、开孔率、单宽流量和地面坡度四因素、三水平,采用正交试验设计方案,得出了对于适宜垄膜覆盖的中等入渗强度区域较为合理的技术要素组合为:孔径5 cm,开孔率为3%,单宽流量为3 L/(s。
2) double ridge mulching
双垄全膜覆盖
1.
Study on corn no-till planting mode of double ridge mulching "one film used for two years" on dryland;
旱地玉米双垄全膜覆盖“一膜用两年”免耕栽培模式研究
3) combinating bed-planting with strew mulching
垄作覆盖
1.
The experiment showed the summer corn cultivation of combinating bed-planting with strew mulching markedly increased the amount of soil water storage from 0~40 cm deep soil profile,especially in the scope of 5~10 cm,in contrast with the flatting cropping system.
试验结果表明,在0~40 cm土层含水量,夏玉米垄作覆盖较平作有显著的提高,以5~10 cm表现尤为突出,随着土层的加深,这种差异逐渐减少;玉米冠层蒸发量平作平均值分别高于平作覆盖、垄作和垄作覆盖12。
4) film-mulching of double line width ridge
大垄双行地膜覆盖
5) Big hillock membrana tectoria
大垄覆膜
补充资料：电解食盐水溶液离子膜电解槽所用的膜材料之一
分子式：
CAS号：
性质：又称全氟羧酸-磺酸复合离子膜 Rf-COOH-Rf-SO3H 电解食盐水溶液离子膜电解槽所用的膜材料之一。使用时，将较薄的羧酸层面向阴极，较厚的磺酸层面向阳极，因而兼有羧酸膜和磺酸膜的优点。由于Rf-COOH层的存在，可阻挡氢氧离子返迁移到阳极室，确保了高的电流效率（96%），因Rf-SO3层的电阻低，能在高电流密度下运行，且阴极液可用盐酸中和，产品氯气中氧含量低，氢氧化钠浓度可达33%～35%。可在全氟磺酸膜上涂敷一层全氟羧酸的聚合物，或是将磺酸膜和羧酸膜进行层压，或是采用化学方法处理而制得的复合膜。现以采用化学方法处理者质量最佳。
CAS号：
性质：又称全氟羧酸-磺酸复合离子膜 Rf-COOH-Rf-SO3H 电解食盐水溶液离子膜电解槽所用的膜材料之一。使用时，将较薄的羧酸层面向阴极，较厚的磺酸层面向阳极，因而兼有羧酸膜和磺酸膜的优点。由于Rf-COOH层的存在，可阻挡氢氧离子返迁移到阳极室，确保了高的电流效率（96%），因Rf-SO3层的电阻低，能在高电流密度下运行，且阴极液可用盐酸中和，产品氯气中氧含量低，氢氧化钠浓度可达33%～35%。可在全氟磺酸膜上涂敷一层全氟羧酸的聚合物，或是将磺酸膜和羧酸膜进行层压，或是采用化学方法处理而制得的复合膜。现以采用化学方法处理者质量最佳。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条