1) Excimer laser ablation technique
准分子激光烧蚀法
2) laser ablation-molecular beam method
激光烧蚀-分子束法
3) laser ablation-molecular beam
激光烧蚀-分子束
5) excimer laser etching
准分子激光腐蚀
6) excimer-laser-annealing
准分子激光烧结
1.
Based on the a-Si∶H thin films deposited by PECVD method, the preparing technique of polycrystalline silicon thin films on glass substrate by XeCl excimer-laser-annealing method was investigated.
在 PECVD法制备 a- Si:H薄膜材料基础上 ,以 Xe Cl准分子激光烧结为手段 ,对在玻璃衬底上制备多晶硅薄膜材料的工艺条件进行了探索 ,利用 XRD、 SEM、 Raman光谱等分析测试手段对所制备材料的结构特征进行了表征。
补充资料：激光烧蚀
分子式：
CAS号：
性质： 是电感偶合等离子体质谱(ICP-MS)联用仪器中用来分析固体样品的一种进样方式。固体样品制成片状置于样品台上，样品表面处于激光束聚焦点上。使用红宝石激光器。一次0.5J的激光轰击，能在样品上产生一个直径为0.5mm，深0.5mm的小坑，消耗样品0.2mg。让等离子体注射气流流过样品表面，再经一导管导入等离子炬，样品在焰炬中即可电离。激光烧蚀所用激光器为大功率、高重复激光器，大面积采样。这样采样均匀性好，而且不受样品种类限制。采用激光烧蚀质谱技术，可以对样品微区进行分析。
CAS号：
性质： 是电感偶合等离子体质谱(ICP-MS)联用仪器中用来分析固体样品的一种进样方式。固体样品制成片状置于样品台上，样品表面处于激光束聚焦点上。使用红宝石激光器。一次0.5J的激光轰击，能在样品上产生一个直径为0.5mm，深0.5mm的小坑，消耗样品0.2mg。让等离子体注射气流流过样品表面，再经一导管导入等离子炬，样品在焰炬中即可电离。激光烧蚀所用激光器为大功率、高重复激光器，大面积采样。这样采样均匀性好，而且不受样品种类限制。采用激光烧蚀质谱技术，可以对样品微区进行分析。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条