1) backscatterins measurement
背散射测量
2) scattering measurement
散射测量
1.
Effects of system imperfection on polarization scattering measurement of distributed targets;
系统误差对分布目标极化散射测量的影响
2.
The joint effect of nonlinear response characteristics and transmitting power fluctuation on scattering measurement is analyzed.
分析了非线性响应特性和发射功率波动对散射测量的联合效应,以及单独的散射测量在这种联合效应作用下产生误差的原因。
3.
This paper generalizes the normal polarimetric calibration model,and evaluates effects on full polarization scattering measurement of a point target from amplitude and phase inbalance of polar channels,crosstalk of antenna,Faraday rotation,target orientation error,interference and noise from system and environment.
在此基础上,评估了极化通道幅相不平衡、天线串扰、法拉第旋转、指向误差角、干扰和系统环境噪声对点目标全极化散射测量的影响,并考虑科学研究和应用需求对上述参数的约束条件,从而得到对极化合成孔径雷达系统设计和极化定标有参考价值的结论。
3) scatterometry
散射测量
1.
To break the limitation of traditional methods and provide robust and non-destructive measurement solution for the nano-scale profiles in the wafer fabrication,scatterometry base optical profile measurement has been developed rapidly and already implemented in most advanced fabs.
为了解决CD-SEM等方法所面临的局限性,以及提供强有力的晶圆纳米级轮廓检测方案以满足生产的需求,基于散射测量法(Scatterometry)的光学轮廓测量得到了迅猛发展,其成为了很多国际化生产厂的重要CD兼轮廓测量的手段。
4) back-scatter detector
背散射检测仪
5) backscattered electron detector
背散射检测器
6) measurement of scattering field
散射场测量
补充资料：背散射电子
分子式：
CAS号：
性质： 高能电子束轰击样品时，从距样品表面0.1～lμm深度范围内散射回来的入射电子。该电子的能量近似入射电子能量。在扫描电镜技术中，高能入射电子束轰击样品表面时，由于电子与物质间的相互作用是一个复杂的过程，故从样品中可激发出各种有用的信息，通过二次电子成像，可以了解样品表面的形貌、受激区域的成分以及有关样品力学、磁学、电子学等性能，其中背散射电子像则着重反映样品的表面形貌和原子序数的分布等。
CAS号：
性质： 高能电子束轰击样品时，从距样品表面0.1～lμm深度范围内散射回来的入射电子。该电子的能量近似入射电子能量。在扫描电镜技术中，高能入射电子束轰击样品表面时，由于电子与物质间的相互作用是一个复杂的过程，故从样品中可激发出各种有用的信息，通过二次电子成像，可以了解样品表面的形貌、受激区域的成分以及有关样品力学、磁学、电子学等性能，其中背散射电子像则着重反映样品的表面形貌和原子序数的分布等。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条