1) bunched beam
电荷束团
1.
A bunched beam for Free Electron Laser(FEL)driven by a linac always encounters some beam-pipe size changes in its transport process.
本文在电荷密度均匀分布假定下，应用直线加速器中空间电荷束团的有限长柱模型，推导得到了束流传输管道孔径变化引起的束团场能变化及场能差公式。
3) electron bunch
电子束团
1.
This paper addresses the output characteristics of real electron bunches accelerated with ultra-intense laser pulse in vacuum by the capture and acceleration scenario (CAS) scheme.
通过仔细研究俘获加速CAS(captureandaccelerationscenario)机制中电子束团的输出特性 ,发现其出射电子有 3类不同的运动轨道即掠过 (pass by)、非弹性散射 (IS)、CAS 。
4) Bound charge
束缚电荷
1.
After analyzing the formation of bound charge and its influence on the second\|order nonlinearity of glass, a qualitative model was proposed, indicating that the electric field induced by the bound charge plays an important role on the poling and decay of both film and bulk glass.
分析了束缚电荷的形成及其对二阶光学非线性的影响 ,定性地从理论上指出 ,由束缚电荷产生的电场对薄膜及体材料的极化和弛豫过程起了决定作
5) charge confinement
电荷约束
6) micellar charge
胶束电荷
补充资料：离子团束外延
离子团束外延
ion cluster beam epitaxy
{一z一t以onshu四a一yan离子团束外延(ion eluster bea伊epi‘axy) 在真空中利用离子团束输运技术进行半导体薄膜材料制备的一种方法。其基本原理是:在真空装置中石墨增祸内放置待沉积材料，增竭盖上有一小孔称为喷嘴，根据所用源材料增竭加热到预期温度，源材料在柑涡内气化，产生1、loPa蒸汽压，真空室本底压力为1『叹Pa，气态源从喷嘴喷射出来进入高真空区，经历绝热膨胀过程，温度下降，原子凝聚成团。喷嘴上方的离化器使部分原子团离化成离子团，衬底偏谈几千伏负压。离子团被加速和未离化的中性原子团共同沉积在衬底表面上。原子团和离子团是松散的非晶结构，到达表面碎裂为原子。控制衬底温度和加速电压，沉积膜可以是非晶、多晶和单晶。 沉积束中离子团具有能量，对结晶膜的生长动力学产生很大影响。提高了原子表面迁移率，增强了沉积原子的粘附系数，能在比较低的温度下生长同质或异质单晶层。也可用丁:绝缘介质和金属膜沉积。 (余怀之)
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参考词条