2) air bearing pressure
气膜承载压强
1.
Applying the multigrid method the air bearing pressure of pico slider(30%,1.
0mm,飞高7nm)的气膜承载压强,相比较单网格方法,多重网格方法求解性能提高显著。
3) pressure distribution of gas film
气膜压强分布
1.
The dimensionless Reynolds lubricating equation was processed with the finite element methods to acquire the pressure distribution of gas film at different poses in the spindle,thereby the counterforce and countertorque in the three axial directions corresponding to the spindle pose was acquired.
通过对主轴在轴套内不同姿态时气膜压强分布采用无因次化压力膜雷诺润滑方程法进行有限元计算,得出不同姿态对应的坐标系各轴向的轴承反力以及反力矩,并探讨工作区间的主轴刚度以及角刚度的近似值,建立主轴力学方程分析主轴重心运动轨迹;引入旋转欧拉方程研究主轴轴线偏转状态,讨论主轴不同几何参数时轴线稳定性;提出通过提高主轴径向主惯性张量与轴向主惯性张量比值(采用径厚比大的盘形主轴结构)的方法提高机床的加工精度。
4) air pressure in aeration
曝气压强
5) Gas pressure
气体压强
1.
The results show that the ionization coefficient α varies with the discharge current and gas pressure, the variation in the cathode region being different from that in the anode region.
结果发现，当放电条件发生改变时，阴极区和阳极区α随放电电流和气体压强变化的规律有很大差别，而且放电条件对α的影响在阴极区比正柱区要显著得
2.
The refractive index,extinction coefficient,optical bandgap and hydrogen content of the testing films were investigated by means of ellipsometry and Fourier transform infrared spectra(FTIR) with gas pressure varied from 20 Pa to 80 Pa.
用射频等离子增强化学气相沉积(RF-PECVD)制备磷掺杂氢化非晶硅(a-Si:H)薄膜,研究了辉光放电气体压强(20～80Pa)对薄膜折射率、消光系数、光学带隙以及氢含量的影响;用激光拉曼光谱研究了气体压强对a-Si:H薄膜微结构的影响,并与薄膜的光学性能进行了综合讨论。
3.
The dark conductivity,activation energy and temperature coefficient of resistance of the films were investigated with varying gas pressures from 20Pa to 80Pa.
用射频等离子增强化学气相沉积方法(RF-PECVD)制备磷掺杂氢化非晶硅(a-Si∶H)薄膜,研究了辉光放电气体压强(20~80 Pa)对薄膜的暗电导率、电导激活能以及电阻温度系数的影响;利用激光喇曼光谱研究了气体压强对a-Si∶H薄膜微结构的影响,并与薄膜的电学性能进行了综合讨论。
6) atmosphere pressure
大气压强
1.
Evaluation the factors effected on the dualchanel laser interferometer precise measurement in micromanufacture, emphasizing on the measured value changed with the atmosphere pressure, temperature, humidity, which would greatly work on the results of the micromanufature.
在激光干涉仪的微纳米加工过程中,着重分析了随着外界环境因素诸如大气压强、温度、相对湿度的变化而引起的测量结果的改变,进而分析对加工结果产生的影响。
补充资料：等离子体压强和磁压强
在流体近似下，可以把等离子体看成是彼此相互作用的电子和离子两种气体的混合物。它们各具有动力压强,上述两种气体成分的分压强之和P=k(niTi+neTe)称为等离子体压强，k是玻耳兹曼常数,角标i、e分别表示离子和电子。
经常遇到的处在静磁场 B中的等离子体，除了等离子体压强外，它还受到磁力 作用，j是电流密度。当磁力线是直的并互相平行时，(B·墷)B项等于零，相当于压强，称为等离子体磁压强。
在等离子体压强和磁压强并存之时，常用参数表示磁压强的相对重要性。这个参数称为比压。
经常遇到的处在静磁场 B中的等离子体，除了等离子体压强外，它还受到磁力 作用，j是电流密度。当磁力线是直的并互相平行时，(B·墷)B项等于零，相当于压强，称为等离子体磁压强。
在等离子体压强和磁压强并存之时，常用参数表示磁压强的相对重要性。这个参数称为比压。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条