1) ME ARE
活性反应离子镀
2) Reactive ion plating
反应离子镀
1.
Films with sheet resistance of 34Ω/□ and peak transmittance of 89% in visible region have been deposited on K9 glass substrate by reactive ion plating deposition.
采用反应离子镀新工艺成功地在K9玻璃上制备了ITO(Indium Tin Oxide)透明导电膜,所制备的ITO膜在550～600nm波长范围内,典型的峰值透过率为89%,面电阻为34Ω/□。
3) Reactive low voltage ion plating
低压反应离子镀
1.
Physical process of reactive low voltage ion plating;
低压反应离子镀的物理过程
2.
Preparation of ITO films by reactive low voltage ion plating;
低压反应离子镀方法制备ITO透明导电膜
4) Low voltage reactive ion plating
低压反应离子镀
1.
WO 3 thin films were prepared by vacuum electron beam evaporation low voltage reactive ion plating technology.
采用真空电子束蒸发低压反应离子镀技术制备 WO3 电致变色薄膜 ,对比研究在玻璃衬底和塑料衬底上制备的 WO3 薄膜的物理特性、电化学特性和电致变色特性。
5) RLVIP
低压反应离子镀(RLVIP)
6) non-reactive anion
非反应性阴离子
1.
Experimental study of non-reactive anion transport in the soil-stone mixture;
土石混合介质中非反应性阴离子运移试验研究
补充资料：离子镀
分子式：
CAS号：
性质：镀料和镀件置于真空室中，在一定真空度下从针形阀通入惰性气体(通常为氩气)，使真空度保持在0.1～1Pa。接通负高压，使蒸发源(镀料；阳极)和镀件(阴极)之间放电，建立低压气体放电的等离子区和阴极区。然后将蒸发源通电加热，使镀料金属气化进入等离子区。在高速电子轰击下，金属气体一部分被电离并在电场作用下被加速，射在镀件表面而形成镀层。离子镀的主要特点是镀层均匀，附着力好，可用于装饰、表面硬化、电子元器件用的金属或化合物镀层、光学用镀层等。
CAS号：
性质：镀料和镀件置于真空室中，在一定真空度下从针形阀通入惰性气体(通常为氩气)，使真空度保持在0.1～1Pa。接通负高压，使蒸发源(镀料；阳极)和镀件(阴极)之间放电，建立低压气体放电的等离子区和阴极区。然后将蒸发源通电加热，使镀料金属气化进入等离子区。在高速电子轰击下，金属气体一部分被电离并在电场作用下被加速，射在镀件表面而形成镀层。离子镀的主要特点是镀层均匀，附着力好，可用于装饰、表面硬化、电子元器件用的金属或化合物镀层、光学用镀层等。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条