1) zirconia films
ZrO_2薄膜
1.
The results show that deposition rates of zirconia films decrease and film surface roughness increases approximately linearly with the increase of oxygen partial pressure.
采用反应射频(RF)磁控溅射法在n型(100)单晶Si基片上沉积了ZrO_2薄膜,研究了氧分压与ZrO_2薄膜的表面粗糙度和沉积速率、SiO_2中间界层的厚度以及ZrO_2薄膜的折射率之间关系。
2) ZrO2(Y2O3) thin film
ZrO_2(Y_2O_3)薄膜
3) Y-ZrO_2 film
Y-ZrO_2薄膜
5) ZrO_2-12wt% Y_2O_3 films
ZrO_2-12wt%Y_2O_3薄膜
补充资料：Baddeleyite(ZrO2)
CAS：12036-23-6
分子式：ZrO2
分子质量：123.22
中文名称：斜锆石
英文名称：baddeleyite；Baddeleyite(ZrO2)；caldasite
分子式：ZrO2
分子质量：123.22
中文名称：斜锆石
英文名称：baddeleyite；Baddeleyite(ZrO2)；caldasite
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条