1) amorphous FeSiB film
非晶FeSiB薄膜
3) FeSiB films
FeSiB薄膜
1.
Study of Giant Magneto-impedance and Stress-impedance of FeSiB films;
FeSiB薄膜的巨磁阻抗和应力阻抗效应研究
2.
FeSiB films have been prepared by RF magnetron sputtering under three different sputtering conditions.
采用射频溅射法在三组不同溅射条件下制备了FeSiB薄膜。
4) sandwiched FeSiB/Cu/FeSiB films
FeSiB/Cu/FeSiB夹心薄膜
1.
Giant magneto-impedance (GMI) effect has been studied in sandwiched FeSiB/Cu/FeSiB films.
研究了非晶FeSiB/Cu/FeSiB夹心薄膜在100kHz～40MHz范围内的巨磁阻抗效应。
5) amorphous FeSiB alloy
非晶FeSiB合金
6) amorphous thin films
非晶薄膜
1.
60 O 3 (PZT) amorphous thin films were deposited on the fused silica substrates using a modified sol gel processing.
60 O3 (PZT)非晶薄膜 ,测量了 2 0 0～ 110 0nm的紫外可见近红外透射光谱 。
2.
52) amorphous thin films on vitreous silica substrates by RF magnetron sputtering were investigated by UV～VIS～NIR transmittance measurement in the wavelength range of 200～1100nm.
5 2 )非晶薄膜 ,并测量了 2 0 0～ 110 0nm的紫外 可见 近红外透射光谱 。
补充资料：稀土-铁族金属非晶薄膜磁光材料
分子式：
CAS号：
性质：用稀土和铁族金属制成的薄膜磁光材料其组成、电和磁性能及单轴各向异性受沉积条件及靶材成分影响。非晶态霍耳电压(VH)与磁场关系和极向克尔磁带回线相似，在补偿温度(Tcomp)附近，霍尔系数R1改变符号，当T<Tcomp时，R1为负，相反为正。其制备方法为高频溅射、真空蒸发、磁控溅射等。
CAS号：
性质：用稀土和铁族金属制成的薄膜磁光材料其组成、电和磁性能及单轴各向异性受沉积条件及靶材成分影响。非晶态霍耳电压(VH)与磁场关系和极向克尔磁带回线相似，在补偿温度(Tcomp)附近，霍尔系数R1改变符号，当T<Tcomp时，R1为负，相反为正。其制备方法为高频溅射、真空蒸发、磁控溅射等。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条