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1)  NiO/NiFe
NiO/NiFe界面
2)  NiO(001) surface
NiO(001)面
3)  △ nif E Av1
nifE Avl
4)  △nifE Avl
△nifE Av1
5)  NiFe buffer layer
NiFe缓冲层
1.
NiFe buffer layer thin films with nano-sized crystallites were prepared by electrodeposition on semiconductor Si(111) substrates.
采用电化学沉积法,在半导体硅片上制备了具有纳米晶粒尺寸的NiFe缓冲层薄膜,并确定了获得Ni80Fe20合金的工艺条件。
6)  NiFe film
NiFe薄膜
1.
A series of annealing temperatures and times which affect thecharacters of NiFe films were investigated.
研究了热处理时间(及温度)对NiFe薄膜的电阻(电阻率)、各向异性磁电阻比和软磁性能的影响。
2.
The spontaneous and remnant magnetization states of the nano-size diamond-shaped NiFe film elements have been investigated by the micromagnetic simulation.
利用微磁学方法系统研究了纳米尺度的NiFe薄膜菱形单元的自发磁化状态及剩磁状态。
补充资料:NX 用户界面-NX3产品介绍

它是什么?


NX 3 为 NX 数字化产品开发系统引进了新的用户交互级别,提供了通常与较简单以设计为中心的工具相关联的生产效率级别。 NX 3 构建于经过证实的 NX 用户交互模型基础上,并继续UGS 的关注焦点,即基于工作流程的用户界面设计。NX3容易使用且便于定制,用户可以集中精力处理手头的任务,它消除了学习高级功能的传统障碍,并加快了产品开发新方法的采用。


一个工作效率极高的用户交互模型确保设计人员能够集中精力处理日常产品开发事宜,而不受他们所使用的工具的限制。这种关注使得人们更加强调“首试成功”的设计理念和快速的产品开发,而这些正是许多组织“精简设计”业务主动行动中的关键构成要素。


它为什么重要?


对于许多公司而言,要参与当今市场的竞争,灵活性是必不可少的,这意味着“临时性”使用产品开发工具的场合会越来越多,因为设计人员和工程师承担了更为广泛的各种任务。为了获得成功,系统需要具有足够的灵活性,以便同时满足富有经验的高级用户以及临时性用户的需要。


有了 NX 3,用户可以定制他们的用户界面,以提高个人的工作效率。建立一致的用户交互模型还能减少所有权成本。通过增加易学性,新用户可以更迅速地成为熟练用户。


对模型的重复使用依赖于对现有设计数据的理解。 NX 3 提供了无与伦比的模型导航工具,通过这些工具,您可以访问所有特性信息,包括设计参数、关系和相关性。可以通过导航器访问使用 NX 3 DesignLogic 捕获的内在知识,从而全面了解产品和流程定义。


通过 NX 3 的直接模型交互方法,用户可以毫无牵挂地集中精力处理手头的任务。通过使用图形窗口里的动态技术进行特性创建和编辑,用户可以将注意力集中于模型数据本身,而无需与窗口和对话框进行交互。这一功能还可以确保自由使用最大的图形区域。


可以快速地组织常用工具,向用户提供面向任务的环境。对环境敏感的交互作用确保只向用户提供一组与当前任务相关的逻辑选项。


菜单和工具栏的快速定制确保公司可以构建满足用户需要的用户环境。这种定制功能可以减少学习时间,并确保用户最佳实践的传达。

说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。
参考词条