1) electro deposition (ED)
电淀积
1.
The authors firstly described the advantages of the selected semiconductor photovoltaic active material CuIn 1-x Ga xSe 2 (CIGS) and the novel thin film precursor solution electro deposition (ED) technology used in this project for obtaining low cost high efficiency thin-film solar cells.
该文叙述了发展低成本、高效率太阳电池光伏有源材料CuIn1 xGaxSe2 (CIGS)和新式薄膜电淀积技术的优点。
2) Electrophoretic deposition
电泳淀积
5) electrostatic precipitation
静电淀积
6) Electrochemical deposition
电化学淀积
1.
An efficient carbon nanotubes(CNTs) field emission cathode has been successfully fabricated by combining electrophoresis and by electrochemical deposition technology.
采用电泳法将碳纳米管组装到电化学淀积的银台阵列上作为场发射阴极并研究了它的场发射特性。
补充资料：化学气相淀积（chemicalvapourdeposition(CVD)）
化学气相淀积（chemicalvapourdeposition(CVD)）
化学气相淀积是一种气体反应过程。在这个过程中，由某些选定气体的热诱导分解在衬底上形成某种介质层。在硅平面器件及集成电路中最常用的是淀积SiO2，Si3N4和多晶硅。化学气相淀积也广泛用于半导体单晶薄膜的外延生长，特别是多层膜的外延生长。在光电子器件和微波器件的制作中尤其常用。CVD方法视工作时反应室中气体压强不同分为常压、低压和超低压CVD。根据化学反应能量提供方式不同可分为热分解、光加热、射频加热、热丝、光、等离子体增强和微波等离子体增强CVD。按反应气源不同又分为卤化物、氢化物和金属有机化合物CVD（MOCVD）。
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参考词条