1) ZnO-based ceramic films
ZnO陶瓷薄膜
1.
Effect of Cr_2O_3 on the electrical properties of ZnO-based ceramic films with low voltage;
Cr_2O_3掺杂对ZnO陶瓷薄膜低压压敏性能的影响
2.
The ZnO-based ceramic films with nonlinearity coefficient 20, no.
应用新型溶胶-凝胶法制备了ZnO陶瓷薄膜,研究了退火温度对ZnO陶瓷薄膜低压压敏电阻电性能的影响。
2) (Bi,Sb) doped ZnO thin film
掺杂ZnO陶瓷薄膜
3) ceramic film
陶瓷薄膜
1.
The Zr-Co ceramic film was formed by using the powders after sintering at special temperature.
在调节剂柠檬酸铵的作用下,采用溶胶凝胶法制备了Y稳定的Zr-Co粉体,经高温烧结制得致密陶瓷薄膜。
2.
And finally the dense phosphate ceramic film was formed after sintering at special temperature.
在有机调整剂CTAB的作用下,将磷酸二氢铝溶液用氨水调节pH值在一定温度下合成纳米磷酸铝粉体,然后经高温烧结制得致密陶瓷薄膜。
3.
There are many techniques for fabricating ceramic films such as PVD,CVD,high-temperature sintering and sol-gel method.
陶瓷薄膜的制备技术多种多样,如物理气相沉积、化学气相沉积、高温烧结和"溶胶-凝胶"法等。
5) ceramic thin film
陶瓷薄膜
1.
Most of oxide ceramic thin films have prepared conveniently by ASSP (arrangement of synthesized solid particle) method with common inorganic precussors.
以常用无机盐为前驱体，通过化学合成固相粒子排布（ASSP—arrangementofsynthesizedsolidPartical）途径，可以方便地制备绝大多数氧化物陶瓷薄膜。
2.
The characteristics of methods for preparing ceramic thin films, namely physical and chemical methods, have been elaborated, and the applications of ceramic thin films have been summarized based on their unusual hardness and unique electrical behavior as oxides and non-oxides.
对各种薄膜制备方法的特点(即物理方法、化学方法)进行阐述,并且从氧化物和非氧化物的角度,综述了陶瓷薄膜作为硬质薄膜、气敏薄膜以及铁电、压电等微电子薄膜的应用。
6) ceramic membranes
陶瓷薄膜
1.
Preparation and applications of the composite ceramic membranes;
复合陶瓷薄膜的制备及其分离应用
2.
Surface morphology of A12O3, A12O3-SiO2 and A12O3-SiO2-TiO2 ceramic membranes was investigated by atom force microscope (AFM).
用原子力显微镜（AFM）观察Al2O3、Al2O3－SiO2及Al2O3－SiO2－TiO2复合陶瓷薄膜的表面形貌。
3.
Ceramic membranes and preparation methods are used very extensive and have important affluence on high-technology,national economic and civilian life.
陶瓷薄膜材料和薄膜技术的应用极其广泛,对高科技、国民经济和人民生活都有着重要影响。
补充资料：陶瓷薄膜
分子式：
CAS号：
性质：用特殊工艺技术，将陶瓷材料制成厚度在几微米以下而仍能保持陶瓷优越性能的一类陶瓷材料。陶瓷薄膜制备方法可分为两大类：(1)物理方法，包括真空热蒸发、直流和射频溅射(包括离子束溅射)，激光蒸发以及分子束外延技术；(2)化学方法，包括喷雾热解、化学气相沉积(CVD)、溶胶-凝胶(Sol-Gel)及金属有机气相沉积(MOCVD)法等。每种方法均要求在基片上提供合适的原子流以便使需要的成分的薄膜在基片表面上可控生长。各种制备方法均各有其长处和短处，但可以根据不同的材料对象和应用目标选择适宜的工艺技术。常见的陶瓷薄膜有高介电常数的钛酸钡、钛酸铅薄膜。可用于制造大容量的薄膜电容器。掺镧的锶钡钛酸盐薄膜，可制成热敏电阻辐射热测量器。铌酸锶钡薄膜，可制成热释电探测器；钛酸铋薄膜，可制成铁电显示器。钇钡铜氧薄膜，可制成超导体用。氧化铝、氧化锆、氧化钛薄膜，可作为固-液分离膜使用。
CAS号：
性质：用特殊工艺技术，将陶瓷材料制成厚度在几微米以下而仍能保持陶瓷优越性能的一类陶瓷材料。陶瓷薄膜制备方法可分为两大类：(1)物理方法，包括真空热蒸发、直流和射频溅射(包括离子束溅射)，激光蒸发以及分子束外延技术；(2)化学方法，包括喷雾热解、化学气相沉积(CVD)、溶胶-凝胶(Sol-Gel)及金属有机气相沉积(MOCVD)法等。每种方法均要求在基片上提供合适的原子流以便使需要的成分的薄膜在基片表面上可控生长。各种制备方法均各有其长处和短处，但可以根据不同的材料对象和应用目标选择适宜的工艺技术。常见的陶瓷薄膜有高介电常数的钛酸钡、钛酸铅薄膜。可用于制造大容量的薄膜电容器。掺镧的锶钡钛酸盐薄膜，可制成热敏电阻辐射热测量器。铌酸锶钡薄膜，可制成热释电探测器；钛酸铋薄膜，可制成铁电显示器。钇钡铜氧薄膜，可制成超导体用。氧化铝、氧化锆、氧化钛薄膜，可作为固-液分离膜使用。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条