1) Co/Cr/Pd multilayers
Co/Cr/Pd多层膜
1.
The influences of two measurement procedures on the magnetic properties of Co/Cr/Pd multilayers with different Cr layer thickness were studied.
研究了测量程序对不同Cr层厚度的Co/Cr/Pd多层膜磁性的影响 ,分析了反磁化机理在不同测量程序中对磁性准确性的影响。
2) Co/Pd nano-multilayer
Co/Pd纳米多层膜
1.
Co/Pd nano-multilayers films were prepared on(111)plane of single crystal silicon by double-bath method.
以单晶Si(111)为基底,采用双槽法电结晶制备了Co/Pd纳米多层膜,使用电化学石英晶体微天平(EQCM)精确测定沉积过程中Co和Pd膜的质量随沉积时间的变化。
3) electrocrystallization Co/Pd multilaycrs
电结晶 Co/Pd 纳米多层膜
4) Ni/Cr multilayer film
Ni/Cr多层膜
1.
Ni/Cr multilayer film was prepared by the way of Ne+ ion beam mixing.
用Ne离子束混合法制备了Ni／Cr多层膜，用Auger光电子能谱（AES）、X射线衍射（XRD）分析离子束混合多层膜的元素组成、分布和相结构，将其结果与简单蒸发沉积的Ni／Cr多层膜结构进行比较同时，对多层膜（轰击与未轰击）的硬度及摩擦学性能进行测定分析比较结果表明，离子束混合多层膜的硬度和抗磨性能与简单蒸发沉积多层膜相比都有提高这主要是因为Ne离子的轰击作用使多层膜更加致密及膜内的碳化铬硬质弥散相向界面处偏聚，使多层界面的强化作用得到加强，从而提高了多层膜的抗磨性
5) Cr/CrNx multilayer films
Cr/CrNx多层膜
6) Cu/Co multilayers
Cu/Co多层膜
1.
Cu/Co multilayers were prepared on monocrystalline silicon(111) by using double-bath method in boric acid solution with additives added.
在硼酸镀液中以单晶S i(111)为基底用双槽法制备Cu/Co多层膜,在镀液中分别加入了镀铜添加剂2000#和镀钴添加剂5#。
补充资料：Au-Pd-Cr-Pt-Fe-Al-Y alloys
分子式：
CAS号：
性质：金基与钯、铬、铂、铁、铝和钇的多元合金，电阻系数最高。生产方法参见金钯铬合金。可用作高温应变材料。
CAS号：
性质：金基与钯、铬、铂、铁、铝和钇的多元合金，电阻系数最高。生产方法参见金钯铬合金。可用作高温应变材料。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条